Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散
封面 | 第1-2页 |
中文摘要 | 第2-4页 |
英文摘要 | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-17页 |
·多层膜研究进展 | 第8-9页 |
·多层膜的巨磁电阻效应和层间耦合 | 第9-12页 |
·金属/半导体多层膜中的层间耦合及实验 | 第12-17页 |
第二章 实验样品的制备工艺与分析测量技术简介 | 第17-29页 |
·薄膜制备方法 | 第17-21页 |
·磁控溅射镀膜 | 第17-19页 |
·基片的洗涤方法 | 第19-20页 |
·薄膜样品的制备 | 第20-21页 |
·样品的退火 | 第21页 |
·测试方法及原理 | 第21-29页 |
·薄膜厚度的测量 | 第21-23页 |
·磁性参数的测量 | 第23-26页 |
·多层膜结构的测试 | 第26-29页 |
第三章 Fe/Si多层膜的研究 | 第29-39页 |
·引言 | 第29-30页 |
·样品的制备 | 第30页 |
·实验结果与讨论 | 第30-38页 |
·结论 | 第38-39页 |
第四章 Fe/Si1-xCrx多层膜的磁性 | 第39-46页 |
·引言 | 第39-40页 |
·样品制备 | 第40-41页 |
·实验结果与讨论 | 第41-44页 |
·结论 | 第44-45页 |
·展望 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-48页 |
附件:硕士期间完成及发表文章清单 | 第48-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
声明 | 第50页 |