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Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

封面第1-2页
中文摘要第2-4页
英文摘要第4-6页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-17页
   ·多层膜研究进展第8-9页
   ·多层膜的巨磁电阻效应和层间耦合第9-12页
   ·金属/半导体多层膜中的层间耦合及实验第12-17页
第二章 实验样品的制备工艺与分析测量技术简介第17-29页
   ·薄膜制备方法第17-21页
     ·磁控溅射镀膜第17-19页
     ·基片的洗涤方法第19-20页
     ·薄膜样品的制备第20-21页
     ·样品的退火第21页
   ·测试方法及原理第21-29页
     ·薄膜厚度的测量第21-23页
     ·磁性参数的测量第23-26页
     ·多层膜结构的测试第26-29页
第三章 Fe/Si多层膜的研究第29-39页
   ·引言第29-30页
   ·样品的制备第30页
   ·实验结果与讨论第30-38页
   ·结论第38-39页
第四章 Fe/Si1-xCrx多层膜的磁性第39-46页
   ·引言第39-40页
   ·样品制备第40-41页
   ·实验结果与讨论第41-44页
   ·结论第44-45页
   ·展望第45-46页
参考文献第46-48页
附件:硕士期间完成及发表文章清单第48-49页
致谢第49-50页
声明第50页

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