500kV直流支柱式瓷绝缘子离子迁移的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-17页 |
| ·直流绝缘子的老化问题 | 第6页 |
| ·直流悬式瓷绝缘子离子迁移的研究现状 | 第6-15页 |
| ·绝缘子离子迁移现象的研究现状 | 第6-7页 |
| ·悬式绝缘子的机电性能 | 第7-10页 |
| ·离子迁试对直流悬式瓷绝缘子的影响 | 第10-12页 |
| ·抑制离子迁移的措施 | 第12-15页 |
| ·直流支柱瓷绝缘子离子迁移的研究现状 | 第15页 |
| ·存在的问题 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-17页 |
| 第二章 直流瓷绝缘子离子迁移试验系统 | 第17-28页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·直流瓷绝缘子离子迁移试验系统介绍 | 第17-23页 |
| ·直流瓷绝缘子离子迁移试验硬件系统 | 第17-19页 |
| ·直流瓷绝缘子离子迁移试验软件系统 | 第19-23页 |
| ·离子迁移试验系统的改进 | 第23-27页 |
| ·直流瓷绝缘子离子迁移试验系统的实测 | 第27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第三章 支柱绝缘子离子迁移试验条件确定 | 第28-46页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·绝缘子离子迁移试验 | 第28-30页 |
| ·绝缘子体积电阻的测量 | 第29页 |
| ·累计电荷量的计算 | 第29-30页 |
| ·长期离子迁移试验 | 第30页 |
| ·支柱绝缘子和悬式绝缘子机电性能的区别 | 第30-34页 |
| ·支柱绝缘子和悬式绝缘子电气性能的区别 | 第30-32页 |
| ·支柱绝缘子和悬式绝缘子机械负荷的区别 | 第32-34页 |
| ·直流支柱瓷绝缘子离子迁移试验条件的确定 | 第34-45页 |
| ·试验试品的确定 | 第34-36页 |
| ·离子迁移试验电压的确定 | 第36-37页 |
| ·试品体积电阻和温度场强关系的确定 | 第37-41页 |
| ·累计电荷量的计算 | 第41-43页 |
| ·长期离子迁移试验的研究 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 离子迁移试验及其分析 | 第46-55页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·离子迁移试验数据及分析 | 第46-47页 |
| ·试品体积电流和温度的关系 | 第46页 |
| ·试品的累积电荷量 | 第46-47页 |
| ·试品的离子迁移率和迁移距离 | 第47-51页 |
| ·化学分析 | 第51-52页 |
| ·机械试验 | 第52-54页 |
| ·机械破坏性参数试验 | 第52-53页 |
| ·机械非破坏性参数试验 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 发表的学术论文 | 第60页 |
