多孔铝镶嵌复合材料的光学性质研究
第一章 多孔铝概述 | 第1-19页 |
§1.1 多孔铝的形态 | 第9-10页 |
§1.2 多孔铝形成机理 | 第10-11页 |
§1.3 制备方法及过程 | 第11-14页 |
1.3.1 制备方法 | 第11-12页 |
1.3.2 制备过程 | 第12-14页 |
§1.4 制备条件对多孔铝的影响 | 第14-15页 |
§1.5 多孔阳极氧化铝的应用前景 | 第15-16页 |
小结 | 第16页 |
参考文献 | 第16-19页 |
第二章 多孔铝镶嵌8-羟基喹啉铝荧光光谱研究 | 第19-37页 |
§2.1 引言 | 第19-20页 |
§2.2 Alq_3发光机理 | 第20-21页 |
§2.3 多孔铝基质的优点 | 第21-22页 |
§2.4 Alq_3在乙醇溶液中的荧光光谱研究 | 第22-26页 |
§2.5 Alq_3在多孔铝中的荧光光谱研究 | 第26-33页 |
2.5.1 三种状态下Alq_3荧光光谱比较 | 第26-29页 |
2.5.2 制备条件对镶嵌膜荧光光谱的影响 | 第29-33页 |
小结 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-37页 |
第三章 镀铜多孔铝膜偏振性质研究 | 第37-51页 |
§3.1 引言 | 第37-38页 |
§3.2 含铜纳米列阵多孔铝的偏振原理 | 第38-39页 |
§3.3 样品制备 | 第39-41页 |
§3.4 样品测量 | 第41-43页 |
§3.5 镀铜多孔铝性能研究 | 第43-48页 |
3.5.1 镀铜多孔铝的吸收光谱 | 第43-44页 |
3.5.2 镀铜多孔铝与未镀铜多孔铝测量结果比较 | 第44-46页 |
3.5.3 镀铜多孔铝的偏振特性随电流密度的变化 | 第46-48页 |
小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-51页 |
发表过的论文 | 第51-52页 |
致谢 | 第52页 |