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多孔铝镶嵌复合材料的光学性质研究

第一章 多孔铝概述第1-19页
 §1.1 多孔铝的形态第9-10页
 §1.2 多孔铝形成机理第10-11页
 §1.3 制备方法及过程第11-14页
  1.3.1 制备方法第11-12页
  1.3.2 制备过程第12-14页
 §1.4 制备条件对多孔铝的影响第14-15页
 §1.5 多孔阳极氧化铝的应用前景第15-16页
 小结第16页
 参考文献第16-19页
第二章 多孔铝镶嵌8-羟基喹啉铝荧光光谱研究第19-37页
 §2.1 引言第19-20页
 §2.2 Alq_3发光机理第20-21页
 §2.3 多孔铝基质的优点第21-22页
 §2.4 Alq_3在乙醇溶液中的荧光光谱研究第22-26页
 §2.5 Alq_3在多孔铝中的荧光光谱研究第26-33页
  2.5.1 三种状态下Alq_3荧光光谱比较第26-29页
  2.5.2 制备条件对镶嵌膜荧光光谱的影响第29-33页
 小结第33-34页
 参考文献第34-37页
第三章 镀铜多孔铝膜偏振性质研究第37-51页
 §3.1 引言第37-38页
 §3.2 含铜纳米列阵多孔铝的偏振原理第38-39页
 §3.3 样品制备第39-41页
 §3.4 样品测量第41-43页
 §3.5 镀铜多孔铝性能研究第43-48页
  3.5.1 镀铜多孔铝的吸收光谱第43-44页
  3.5.2 镀铜多孔铝与未镀铜多孔铝测量结果比较第44-46页
  3.5.3 镀铜多孔铝的偏振特性随电流密度的变化第46-48页
 小结第48-49页
 参考文献第49-51页
发表过的论文第51-52页
致谢第52页

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