基于磁光非互易效应的光波导器件研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-29页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·磁光波导器件的产生与研究现状 | 第8-22页 |
| ·磁光波导隔离器 | 第10-19页 |
| ·模式转换型 | 第11-12页 |
| ·非互易损耗型 | 第12-14页 |
| ·非互易相移型 | 第14-19页 |
| ·磁光波导环形器 | 第19-21页 |
| ·磁光波导传感器 | 第21-22页 |
| ·磁光波导器件未来的发展方向 | 第22-23页 |
| ·本论文主要研究内容与研究意义 | 第23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第二章 磁光材料与磁光效应 | 第29-50页 |
| ·磁光材料 | 第29-38页 |
| ·钇铁石榴石 | 第29-36页 |
| ·钇铁石榴石的结构 | 第30页 |
| ·钇铁石榴石的磁光性质 | 第30-32页 |
| ·钇铁石榴石的制备 | 第32-36页 |
| ·稀磁半导体 | 第36-37页 |
| ·磁光玻璃 | 第37-38页 |
| ·磁光效应 | 第38-47页 |
| ·法拉第效应 | 第39-41页 |
| ·磁光克尔效应 | 第41-43页 |
| ·磁致线双折射效应 | 第43-46页 |
| ·塞曼效应 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第三章 偏振无关磁光波导隔离器 | 第50-66页 |
| ·单层磁光介质TE模磁光波导隔离器 | 第50-52页 |
| ·结构设计与原理分析 | 第50-51页 |
| ·工艺制作方案 | 第51-52页 |
| ·单层磁光介质偏振无关磁光波导隔离器 | 第52-57页 |
| ·结构设计与原理分析 | 第52-55页 |
| ·工艺制作方案 | 第55-57页 |
| ·畴壁型偏振无关磁光波导结构 | 第57-65页 |
| ·结构设计与原理分析 | 第57-59页 |
| ·几种结构的比较 | 第59-61页 |
| ·多模结构的分析 | 第61-64页 |
| ·工艺制作方案 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第四章 非互易磁光波导光栅 | 第66-71页 |
| ·磁光波导光栅结构的设计 | 第66-67页 |
| ·非互易特性的模拟与分析 | 第67-68页 |
| ·正向传输特性 | 第67-68页 |
| ·反向传输特性 | 第68页 |
| ·非互易光栅的应用举例 | 第68-70页 |
| ·波长选择隔离器 | 第68-69页 |
| ·非互易光分插复用器 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第五章 磁光波导的制作 | 第71-85页 |
| ·传统的制作工艺流程 | 第71-80页 |
| ·溅射 | 第71-73页 |
| ·退火 | 第73-74页 |
| ·光刻 | 第74-75页 |
| ·腐蚀 | 第75-79页 |
| ·抛光及通光 | 第79页 |
| ·测试与分析 | 第79-80页 |
| ·其他工艺制作流程 | 第80-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 第六章 总结与展望 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 附录：攻读硕士期间的研究成果 | 第87页 |
