基于深刻蚀二氧化硅脊型波导功分器的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| ·光通信的历史以及现状 | 第7-8页 |
| ·FTTH以及PON的最新进展 | 第8-10页 |
| ·平面光波导集成器件的现状 | 第10-13页 |
| ·光通信用功分器的现状 | 第13-16页 |
| ·本论文的主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 光波导基本理论与数值模拟 | 第17-29页 |
| ·光波导的基本理论 | 第17-24页 |
| ·光波导概述 | 第17页 |
| ·介质波导的本征方程与模式分析 | 第17-22页 |
| ·等效折射率法 | 第22-24页 |
| ·光波导的数值模拟 | 第24-29页 |
| ·有限差分法 | 第24-26页 |
| ·束传播法原理 | 第26-29页 |
| 第3章 光波导型多模干涉功分器的设计 | 第29-49页 |
| ·功分器概述 | 第29-35页 |
| ·功分器的分类 | 第31-33页 |
| ·表征功分器性能的技术参数 | 第33-35页 |
| ·多模干涉原理 | 第35-38页 |
| ·多模干涉效应概述 | 第35-36页 |
| ·多模干涉原理 | 第36-38页 |
| ·深刻蚀多模干涉波导功分器的设计 | 第38-49页 |
| ·深刻蚀波导的有关特性 | 第38-39页 |
| ·基于深刻蚀波导的多模干涉功分器的总体设计 | 第39-41页 |
| ·功分器结构参数的设计和优化 | 第41-46页 |
| ·1×4,1×8功分器的设计 | 第46-49页 |
| 第4章 硅基光波导功分器的工艺制作与测试 | 第49-65页 |
| ·光波导制作工艺概述 | 第49-54页 |
| ·波导薄膜制备 | 第49-51页 |
| ·光刻技术 | 第51-53页 |
| ·干法刻蚀技术 | 第53-54页 |
| ·光波导的测试 | 第54页 |
| ·基于深刻蚀波导 MMI功分器实际制作 | 第54-59页 |
| ·MMI功分器的测试 | 第59-65页 |
| 第5章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·本论文工作总结 | 第65页 |
| ·未来展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
