| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·光催化反应机理 | 第9-10页 |
| ·TiO_2光催化剂的特点 | 第10-11页 |
| ·影响TiO_2光催化性能的主要因素 | 第11-13页 |
| ·晶型的影响 | 第11-12页 |
| ·锻烧温度的影响 | 第12-13页 |
| ·粒径的影响 | 第13页 |
| ·表面羟基的影响 | 第13页 |
| ·提高TiO_2光催化性能的主要途径 | 第13-17页 |
| ·金属离子掺杂 | 第14页 |
| ·非金属掺杂 | 第14-15页 |
| ·半导体复合 | 第15页 |
| ·外场耦合光催化 | 第15-17页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 纳米TiO_2薄膜的制备与表征 | 第19-29页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第19-22页 |
| ·主要的试剂及仪器 | 第19-20页 |
| ·检测仪器 | 第20页 |
| ·TiO_2溶胶的制备 | 第20页 |
| ·基底的清洗 | 第20-21页 |
| ·镀膜与热处理 | 第21-22页 |
| ·实验样品表征及分析 | 第22-28页 |
| ·XRD分析 | 第22-24页 |
| ·FT-IR分析 | 第24-26页 |
| ·TG分析 | 第26页 |
| ·AFM分析 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 电场辅助对TiO_2光催化性能的影响 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-31页 |
| ·试剂与仪器 | 第29页 |
| ·薄膜制备与表征 | 第29-30页 |
| ·实验方法 | 第30-31页 |
| ·结果与分析 | 第31-36页 |
| ·电场对最佳光催化活性层数的影响 | 第31-32页 |
| ·电场对催化剂TiO_2光催化活性的影响 | 第32-34页 |
| ·电场作用下PH的影响 | 第34-36页 |
| ·动力学分析 | 第36-39页 |
| ·不同电压作用的动力学分析 | 第37-38页 |
| ·不同pH值的动力学分析 | 第38-39页 |
| 结论 | 第39-41页 |
| 第四章 磁场辅助对TiO_2光催化性能的影响 | 第41-53页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·试剂与仪器 | 第41页 |
| ·掺杂薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·实验方法 | 第42页 |
| ·结果与分析 | 第42-48页 |
| ·磁场对偶氮胭脂红降解速率的影响 | 第42-43页 |
| ·磁场对TiO_2光催化活性的影响 | 第43-44页 |
| ·磁场对Fe~(3+)/TiO_2光催化活性的影响 | 第44-46页 |
| ·磁场对Ni~(2+)/TiO_2光催化活性的影响 | 第46页 |
| ·磁场对Cu~(2+)/TiO_2光催化活性的影响 | 第46-47页 |
| ·磁场对La~(2+)/TiO_2光催化活性的影响 | 第47-48页 |
| ·理论分析 | 第48-52页 |
| ·自由基对理论 | 第48-50页 |
| ·势阱的形成及其作用机理 | 第50-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读硕士期间的成果 | 第61-62页 |
