| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 序 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| ·硅基发光材料的研究 | 第11-16页 |
| ·多孔硅基发光材料的研究 | 第12-13页 |
| ·硅基量子低维发光材料 | 第13页 |
| ·Nc-Si/SiO_2超晶格 | 第13-14页 |
| ·氮化硅薄膜材料 | 第14-16页 |
| ·纳米硅基发光材料发光机理研究 | 第16-18页 |
| ·SiN_xO_y薄膜材料 | 第18-20页 |
| ·SiN_xO_y薄膜的性能 | 第18页 |
| ·SiN_xO_y的发光特性研究 | 第18-20页 |
| ·本文的思路及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2 薄膜的制备与表征 | 第22-25页 |
| ·样品的制备 | 第22-23页 |
| ·基片与基片清洗 | 第22页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·样品的表征 | 第23-25页 |
| ·台阶仪 | 第23页 |
| ·傅里叶变换红外吸收光谱 | 第23-24页 |
| ·光致发光光谱 | 第24-25页 |
| 3 SiN_xO_y中计量比y对薄膜的结构及其光致发光性能影响的研究 | 第25-31页 |
| ·薄膜制备 | 第25-26页 |
| ·实验结果与分析 | 第26-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 SiN_xO_y中计量比x对薄膜的结构及其光致发光性能影响的研究 | 第31-39页 |
| ·薄膜制备 | 第31-32页 |
| ·实验结果与分析 | 第32-37页 |
| ·SiN_x薄膜的光致发光机理研究 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 5 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 作者简历 | 第42-44页 |
| 学位论文数据集 | 第44页 |