| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| ·研究背景 | 第8-12页 |
| ·单晶蓝宝石的制备与应用 | 第12-18页 |
| ·光学增透薄膜的研究现状 | 第18-19页 |
| ·增透膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 红外增透膜系的理论研究与设计 | 第22-40页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·膜系设计的基本原理 | 第22-31页 |
| ·麦克斯韦方程 | 第22-23页 |
| ·波动方程的解 | 第23-26页 |
| ·光学导纳 | 第26-27页 |
| ·平面电磁波的反射和折射 | 第27-31页 |
| ·增透保护膜系的优化设计方法 | 第31-36页 |
| ·膜系优化设计基本原理及评价函数的构成 | 第31-34页 |
| ·Essential Macleod光学设计软件简介及应用 | 第34-36页 |
| ·增透膜系设计效果 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 磁控溅射原理及试验参数优化 | 第40-47页 |
| ·射频反应溅射基本原理 | 第40-43页 |
| ·实验工艺参数的选择 | 第43-44页 |
| ·实验工艺流程 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第47-58页 |
| ·红外增透膜的结构分析 | 第47-53页 |
| ·薄膜的XRD表征 | 第47-48页 |
| ·薄膜的SEM表征 | 第48-51页 |
| ·薄膜的AFM表征 | 第51-53页 |
| ·红外增透膜的成分分析 | 第53-55页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的EDX分析 | 第54-55页 |
| ·红外增透膜的性能分析 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65页 |