摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·课题背景及研究的目的和意义 | 第10-11页 |
·课题背景 | 第10-11页 |
·本课题目的和意义 | 第11页 |
·TiO_2 光催化剂的研究 | 第11-15页 |
·TiO_2 的性质 | 第12页 |
·TiO_2 光催化制氢反应机理 | 第12-14页 |
·TiO_2 晶体结构对光催化性能的影响 | 第14-15页 |
·改性TiO_2 光催化剂的研究现状 | 第15-18页 |
·半导体复合 | 第16页 |
·半导体表面光敏化 | 第16页 |
·贵金属沉积 | 第16-17页 |
·离子掺杂 | 第17-18页 |
·共掺杂 | 第18页 |
·气相化学热扩渗方法的研究进展 | 第18-20页 |
·化学浸渍/还原方法的研究进展 | 第20-21页 |
·本课题的主要研究内容 | 第21-22页 |
第2章 实验材料及研究方法 | 第22-29页 |
·实验材料 | 第22-23页 |
·TiO_2 膜的制备 | 第23-25页 |
·TiO_2 膜的制备装置 | 第23页 |
·TiO_2 膜的制备 | 第23-25页 |
·TiO_2 膜的后处理工艺 | 第25-26页 |
·气相化学热扩渗对TiO_2 膜的后处理 | 第25-26页 |
·化学浸渍对TiO_2 膜的后处理 | 第26页 |
·TiO_2 膜的表征 | 第26-27页 |
·TiO_2 膜的相组成 | 第26-27页 |
·TiO_2 膜的形貌和元素分析 | 第27页 |
·TiO_2 膜的的UV-Vis 漫反射曲线 | 第27页 |
·TiO_2 膜表面元素分析 | 第27页 |
·TiO_2 膜光催化还原制氢性能评价 | 第27-29页 |
·光催化降解装置 | 第27页 |
·实验方法 | 第27-29页 |
第3章 TiO_2/Ti 膜气相化学热扩渗处理及光催化制氢 | 第29-55页 |
·渗C 处理TiO_2 膜的光催化性能及其结构表征 | 第29-41页 |
·稀土用量对TiO_2 膜光催化性能及结构的影响 | 第29-34页 |
·扩渗温度对TiO_2 膜光催化性能及结构的影响 | 第34-38页 |
·冷却方式对TiO_2 膜光催化性能及组成结构的影响 | 第38-41页 |
·C、N 共渗TiO_2 膜的光催化性能及其结构表征 | 第41-44页 |
·C、N 共渗时TiO_2 膜光催化性能 | 第41-42页 |
·C、N 共渗时TiO_2 膜UV-Vis 漫反射曲线 | 第42页 |
·C、N 共渗时TiO_2 膜层的组成与结构表征 | 第42-44页 |
·C、Ag 共渗TiO_2 膜的光催化性能及结构表征 | 第44-48页 |
·C、Ag 共渗时TiO_2 膜的光催化性能 | 第45页 |
·C、Ag 共渗时TiO_2 膜的UV-Vis 漫反射曲线 | 第45-46页 |
·C、Ag 共渗时TiO_2 膜的组成与结构表征 | 第46-48页 |
·C、N、Ag 共渗TiO_2 膜光催化性能及结构表征 | 第48-53页 |
·C、N、Ag 共渗时TiO_2 膜的光催化性能 | 第48-49页 |
·C、N、Ag 共渗时TiO_2 膜的UV-Vis 漫反射曲线 | 第49页 |
·C、N、Ag 共渗时TiO_2 膜的结构表征 | 第49-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第4章 TiO_2/Ti 膜化学浸渍处理及光催化制氢 | 第55-72页 |
·浸渍Ce 的TiO_2 膜光催化性能及结构表征 | 第55-59页 |
·浸渍Ce 对TiO_2 膜光催化性能的影响 | 第56页 |
·浸渍Ce 对膜层UV-Vis 漫反射曲线的影响 | 第56-57页 |
·浸渍Ce 对TiO_2 膜结构的影响 | 第57-59页 |
·负载Ag 的TiO_2 膜光催化性能及其结构表征 | 第59-68页 |
·气氛还原负载Ag 对TiO_2 膜光催化性能及结构的影响 | 第59-65页 |
·还原剂还原负载Ag 对TiO_2 膜光催化性能及结构的影响 | 第65-68页 |
·不同负载Ag 方法的TiO_2 膜光催化性能及结构表征 | 第68-70页 |
·不同负载Ag 方法对TiO_2 膜光催化性能的影响 | 第68页 |
·不同负载Ag 方法对TiO_2 膜UV-Vis 漫反射的影响 | 第68-69页 |
·不同负载Ag 方式对TiO_2 膜结构的影响 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-80页 |
致谢 | 第80页 |