| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-43页 |
| ·顺序注射-阀上实验室的产生背景 | 第13-17页 |
| ·流动注射分析系统 | 第13-14页 |
| ·顺序注射分析系统 | 第14-15页 |
| ·顺序注射-阀上实验室分析系统 | 第15-17页 |
| ·顺序注射-阀上实验室的操作步骤 | 第17-18页 |
| ·顺序注射-阀上实验室的样品处理方式 | 第18-29页 |
| ·液-液均相反应 | 第18-24页 |
| ·微珠注射 | 第24-29页 |
| ·顺序注射-阀上实验室的检测方法 | 第29-33页 |
| ·阀内测定方法 | 第30-31页 |
| ·联用测定方法 | 第31-33页 |
| ·顺序注射-阀上实验室的应用领域 | 第33-34页 |
| ·本论文的选题思路和研究目标 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-43页 |
| 第2章 阀上实验室拎蒸气发生微型原子荧光光谱系统研究 | 第43-61页 |
| ·引言 | 第43-45页 |
| ·实验部分 | 第45-48页 |
| ·试剂与样品 | 第45页 |
| ·分析系统 | 第45-47页 |
| ·实验流程 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-57页 |
| ·阀上实验室内光纤头位置的选择 | 第48-49页 |
| ·还原剂NaBH_4的使用量 | 第49-52页 |
| ·氢气对汞荧光的影响 | 第52-53页 |
| ·分析系统的优化 | 第53-55页 |
| ·共存离子的影响 | 第55页 |
| ·系统的分析性能 | 第55-57页 |
| ·样品测定 | 第57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 第3章 预涂覆NaBH_4-冷蒸气发生-微型原子荧光光谱系统研究 | 第61-77页 |
| ·引言 | 第61-62页 |
| ·实验部分 | 第62-64页 |
| ·试剂与样品 | 第62-63页 |
| ·分析系统 | 第63-64页 |
| ·实验流程 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-73页 |
| ·预涂覆NaBH_4方法的研究 | 第64-67页 |
| ·还原能力的评价 | 第67-68页 |
| ·汞记忆效应的消除 | 第68-69页 |
| ·分析系统的优化 | 第69-70页 |
| ·共存离子的影响 | 第70-71页 |
| ·系统的分析性能 | 第71-72页 |
| ·样品测定 | 第72-73页 |
| ·结论 | 第73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 第4章 介质阻挡放电微型原子荧光光谱系统研究 | 第77-97页 |
| ·引言 | 第77-79页 |
| ·实验部分 | 第79-83页 |
| ·试剂与样品 | 第79-80页 |
| ·分析系统 | 第80-82页 |
| ·原子化室与检测室单元的制备 | 第82-83页 |
| ·实验流程 | 第83页 |
| ·结果与讨论 | 第83-91页 |
| ·原子化室与检测室的构造 | 第83-84页 |
| ·介质阻挡放电原子化方式的研究 | 第84-86页 |
| ·分析系统的优化 | 第86-88页 |
| ·共存离子的影响 | 第88-89页 |
| ·系统的分析性能 | 第89-91页 |
| ·样品测定 | 第91页 |
| ·结论 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 第5章 介质阻挡放电微型原子发射光谱系统研究 | 第97-117页 |
| ·引言 | 第97-99页 |
| ·实验部分 | 第99-102页 |
| ·试剂与样品 | 第99页 |
| ·分析系统 | 第99-100页 |
| ·激发室单元的制备 | 第100-101页 |
| ·实验流程 | 第101-102页 |
| ·结果与讨论 | 第102-112页 |
| ·本系统定量分析方法的探讨 | 第102-105页 |
| ·介质阻挡放电激发光源的控制 | 第105-107页 |
| ·分析系统的优化 | 第107-109页 |
| ·共存离子的影响 | 第109-110页 |
| ·系统的分析性能 | 第110-111页 |
| ·样品测定 | 第111-112页 |
| ·结论 | 第112页 |
| 参考文献 | 第112-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
| 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第119-120页 |