铜基石墨烯化学气相沉积扩散机制研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| 英文摘要 | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-44页 |
| 1.1 碳材料的发展史及应用 | 第13-21页 |
| 1.2 石墨烯的结构特征和基本性质 | 第21-26页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第26-29页 |
| 1.4 石墨烯的应用 | 第29-36页 |
| 1.5 本论文工作架构 | 第36页 |
| 参考文献 | 第36-44页 |
| 第二章 CVD法制备石墨烯简介 | 第44-60页 |
| 2.1 石墨烯的CVD制备 | 第44-49页 |
| 2.2 石墨烯的转移 | 第49-52页 |
| 2.3 石墨烯的表征 | 第52-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 第三章 CVD法制备毫米单晶石墨烯 | 第60-75页 |
| 3.1 引言 | 第60页 |
| 3.2 氢气对石墨烯生长的影响 | 第60-66页 |
| 3.3 石墨烯成核密度影响因素 | 第66-70页 |
| 3.4 铜衬底晶向对石墨烯形貌的影响 | 第70-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 第四章 石墨烯扩散机制研究 | 第75-95页 |
| 4.1 CVD生长研究现状及问题 | 第75-78页 |
| 4.2 石墨烯映射现象 | 第78-85页 |
| 4.3 同位素标定实验及分析 | 第85-89页 |
| 4.4 石墨烯扩散机制模型 | 第89-90页 |
| 4.5 扩散机制的应用 | 第90-91页 |
| 4.6 本章小结 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-95页 |
| 第五章 石墨烯反常刻蚀现象研究 | 第95-109页 |
| 5.1 刻蚀研究现状及问题 | 第95-97页 |
| 5.2 发现反常刻蚀现象 | 第97-99页 |
| 5.3 同位素追踪刻蚀过程及分析 | 第99-102页 |
| 5.4 动态刻蚀过程机理解释 | 第102-104页 |
| 5.5 高覆盖率双层石墨烯制备 | 第104-105页 |
| 5.6 本章小结 | 第105页 |
| 参考文献 | 第105-109页 |
| 第六章 亚毫米级双多层石墨烯制备 | 第109-124页 |
| 6.1 双多层石墨烯研究现状及问题 | 第109-112页 |
| 6.2 三明治结构石墨烯生长分析 | 第112-117页 |
| 6.3 亚毫米级双多层石墨烯的制备 | 第117-118页 |
| 6.4 夹层铜粗糙度对双多层石墨烯成核影响 | 第118-120页 |
| 6.5 本章小结 | 第120页 |
| 参考文献 | 第120-124页 |
| 总结和展望 | 第124-126页 |
| 博士期间发表论文 | 第126-127页 |
| 致谢 | 第127-128页 |
