中文摘要 | 第3-5页 |
英文摘要 | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-24页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 铜的腐蚀 | 第9-14页 |
1.2.1 均匀腐蚀 | 第10-12页 |
1.2.2 点蚀 | 第12-14页 |
1.2.3 冲刷腐蚀 | 第14页 |
1.2.4 大气腐蚀 | 第14页 |
1.3 缓蚀剂简介 | 第14-22页 |
1.3.1 铜缓蚀剂研究 | 第15-18页 |
1.3.2 离子液体简介及其在缓蚀领域的应用 | 第18-20页 |
1.3.3 8-羟基喹啉的理化性质及其在缓蚀领域的应用 | 第20-22页 |
1.4 缓蚀剂常用研究方法 | 第22-24页 |
1.4.1 电化学方法 | 第22页 |
1.4.2 失重法 | 第22页 |
1.4.3 表面分析方法 | 第22-23页 |
1.4.4 计算机模拟研究方法 | 第23-24页 |
2 四种以8-羟基喹啉为底物的离子液体的合成、表征 | 第24-41页 |
2.1 引言 | 第24页 |
2.2 合成实验主要实验试剂及仪器 | 第24-25页 |
2.2.1 实验试剂 | 第24-25页 |
2.2.2 实验仪器 | 第25页 |
2.3 目标离子液体的制备与表征 | 第25-37页 |
2.3.1 第一种合成路线及其产物表征 | 第25-32页 |
2.3.2 第二种合成路线及其产物表征 | 第32-37页 |
2.3.3 两种合成路线的对比分析 | 第37页 |
2.4 四种离子液体的性质测定 | 第37-39页 |
2.4.1 四种离子液体的熔点测定 | 第37-38页 |
2.4.2 四种离子液体的电导率测定 | 第38-39页 |
2.5 本章小结 | 第39-41页 |
3 四种离子液体在0.5MH_2SO_4中对铜的缓蚀性能研究 | 第41-60页 |
3.1 引言 | 第41页 |
3.2 缓蚀实验 | 第41-45页 |
3.2.1 实验试剂 | 第41-42页 |
3.2.2 实验仪器 | 第42页 |
3.2.3 电化学实验 | 第42-43页 |
3.2.4 表面形貌实验 | 第43-44页 |
3.2.5 计算方法 | 第44-45页 |
3.3 结果与讨论 | 第45-58页 |
3.3.1 动电位极化曲线 | 第45-47页 |
3.3.2 电化学交流阻抗 | 第47-52页 |
3.3.3 SEM(扫描电镜)分析 | 第52-53页 |
3.3.4 吸附模型的研究 | 第53-54页 |
3.3.5 量子化学计算 | 第54-56页 |
3.3.6 分子动力学模拟 | 第56-58页 |
3.4 本章小结 | 第58-60页 |
4 结论与展望 | 第60-61页 |
4.1 主要结论 | 第60页 |
4.2 展望 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-69页 |
附录 | 第69页 |
A.作者在攻读硕士学位期间所发表的文章 | 第69页 |