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8-羟基喹啉衍生物的合成及其在0.5M H2SO4中对铜的缓蚀性能研究

中文摘要第3-5页
英文摘要第5-9页
1 绪论第9-24页
    1.1 引言第9页
    1.2 铜的腐蚀第9-14页
        1.2.1 均匀腐蚀第10-12页
        1.2.2 点蚀第12-14页
        1.2.3 冲刷腐蚀第14页
        1.2.4 大气腐蚀第14页
    1.3 缓蚀剂简介第14-22页
        1.3.1 铜缓蚀剂研究第15-18页
        1.3.2 离子液体简介及其在缓蚀领域的应用第18-20页
        1.3.3 8-羟基喹啉的理化性质及其在缓蚀领域的应用第20-22页
    1.4 缓蚀剂常用研究方法第22-24页
        1.4.1 电化学方法第22页
        1.4.2 失重法第22页
        1.4.3 表面分析方法第22-23页
        1.4.4 计算机模拟研究方法第23-24页
2 四种以8-羟基喹啉为底物的离子液体的合成、表征第24-41页
    2.1 引言第24页
    2.2 合成实验主要实验试剂及仪器第24-25页
        2.2.1 实验试剂第24-25页
        2.2.2 实验仪器第25页
    2.3 目标离子液体的制备与表征第25-37页
        2.3.1 第一种合成路线及其产物表征第25-32页
        2.3.2 第二种合成路线及其产物表征第32-37页
        2.3.3 两种合成路线的对比分析第37页
    2.4 四种离子液体的性质测定第37-39页
        2.4.1 四种离子液体的熔点测定第37-38页
        2.4.2 四种离子液体的电导率测定第38-39页
    2.5 本章小结第39-41页
3 四种离子液体在0.5MH_2SO_4中对铜的缓蚀性能研究第41-60页
    3.1 引言第41页
    3.2 缓蚀实验第41-45页
        3.2.1 实验试剂第41-42页
        3.2.2 实验仪器第42页
        3.2.3 电化学实验第42-43页
        3.2.4 表面形貌实验第43-44页
        3.2.5 计算方法第44-45页
    3.3 结果与讨论第45-58页
        3.3.1 动电位极化曲线第45-47页
        3.3.2 电化学交流阻抗第47-52页
        3.3.3 SEM(扫描电镜)分析第52-53页
        3.3.4 吸附模型的研究第53-54页
        3.3.5 量子化学计算第54-56页
        3.3.6 分子动力学模拟第56-58页
    3.4 本章小结第58-60页
4 结论与展望第60-61页
    4.1 主要结论第60页
    4.2 展望第60-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-69页
附录第69页
    A.作者在攻读硕士学位期间所发表的文章第69页

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