摘要 | 第15-17页 |
Abstract | 第17-18页 |
第一章 绪论 | 第20-56页 |
1.1 研究背景 | 第20页 |
1.2 纳米催化剂 | 第20-33页 |
1.2.1 纳米催化剂类型 | 第20-22页 |
1.2.1.1 金属纳米催化剂 | 第21-22页 |
1.2.1.2 金属氧化物纳米催化剂 | 第22页 |
1.2.1.3 分子筛复合物纳米催化剂 | 第22页 |
1.2.2 纳米催化剂制备 | 第22-28页 |
1.2.2.1 溶胶-凝胶法 | 第23-24页 |
1.2.2.2 沉淀法 | 第24页 |
1.2.2.3 浸渍法 | 第24-26页 |
1.2.2.4 微乳液法 | 第26-27页 |
1.2.2.5 液相化学还原法 | 第27-28页 |
1.2.3 纳米催化剂作用机制研究 | 第28-33页 |
1.2.3.1 载体效应 | 第28页 |
1.2.3.2 助催化剂的作用 | 第28-31页 |
1.2.3.3 金属与载体的相互作用 | 第31-32页 |
1.2.3.4 金属与助催化剂的相互作用 | 第32-33页 |
1.3 合成气的制备 | 第33-38页 |
1.3.1 甲烷部分氧化制合成气(POM) | 第35-37页 |
1.3.2 甲烷二氧化碳重整制合成气(DRM) | 第37-38页 |
1.4 论文的构思和研究内容 | 第38-41页 |
参考文献 | 第41-56页 |
第二章 实验部分 | 第56-66页 |
2.1 主要实验试剂 | 第56-57页 |
2.2 催化剂的反应性能评价 | 第57-60页 |
2.2.1 甲烷部分氧化性能评价实验 | 第57-58页 |
2.2.2 甲烷二氧化碳重整性能评价实验 | 第58-60页 |
2.3 催化剂的常规表征 | 第60-64页 |
2.3.1 N_2物理吸附(BET)测试 | 第60页 |
2.3.2 X-射线粉末衍射(XRD)实验 | 第60页 |
2.3.3 程序升温还原(H_2-TPR) | 第60-61页 |
2.3.4 热重分析(TG-DTG) | 第61页 |
2.3.5 红外光谱表征(IR) | 第61-62页 |
2.3.6 X-射线光电子能谱(XPS) | 第62页 |
2.3.7 高分辨透射电镜(TEM) | 第62页 |
2.3.8 激光拉曼(Raman)光谱表征 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-66页 |
第三章 高分散Ni/SiO_2的制备和表征及其甲烷部分氧化制合成气性能 | 第66-94页 |
3.1 引言 | 第66-67页 |
3.2 催化剂的制备和标注 | 第67-68页 |
3.3 不同前驱体制备的Ni/SiO_2催化剂的POM反应性能及物化表征 | 第68-72页 |
3.3.1 POM反应性能评价 | 第68-69页 |
3.3.2 XRD表征 | 第69-71页 |
3.3.3 H_2-TPR表征 | 第71页 |
3.3.4 TEM表征 | 第71-72页 |
3.4 不同溶剂制备的Ni/SiO_2-acac催化剂的POM反应性能及物化表征 | 第72-77页 |
3.4.1 POM反应性能评价 | 第72-73页 |
3.4.2 XRD表征 | 第73-74页 |
3.4.3 TEM表征 | 第74-75页 |
3.4.4 Ni/SiO_2-acac催化剂的POM反应寿命测试 | 第75-77页 |
3.5 不同焙烧温度的Ni/SiO_2-acac催化剂的POM性能以及物化表征 | 第77-81页 |
3.5.1 POM反应性能评价 | 第77-78页 |
3.5.2 H_2-TPR表征 | 第78-79页 |
3.5.3 TEM表征 | 第79页 |
3.5.4 XRD表征 | 第79-81页 |
3.6 Ni/SiO_2-acac催化剂的物化表征及制备机理研究 | 第81-87页 |
3.6.1 不同负载量的Ni/SiO_2-acac催化剂的POM反应性能及物化表征 | 第81-84页 |
3.6.1.1 BET测试 | 第81页 |
3.6.1.2 POM反应性能评价 | 第81-82页 |
3.6.1.3 XRD及TPR表征 | 第82-84页 |
3.6.1.4 TEM表征 | 第84页 |
3.6.2 Ni/SiO_2-acac催化剂的制备机理探究 | 第84-87页 |
3.6.2.1 乙酰丙酮镍与SiO_2表面作用的原位IR光谱表征 | 第84-87页 |
3.6.2.2 催化剂分解过程的TG-DTG表征 | 第87页 |
3.7 本章小结 | 第87-89页 |
参考文献 | 第89-94页 |
第四章 Rh-CeO_2/SiO_2催化剂上Rh-CeO_2相互作用的探究 | 第94-162页 |
4.1 引言 | 第94-95页 |
4.2 催化剂的制备及标注 | 第95-96页 |
4.2.1 以乙酰丙酮盐为前驱体制备Rh-CeO_2/SiO_2催化剂 | 第95-96页 |
4.2.2 以硝酸盐为前驱体制备Rh-CeO_2/SiO_2催化剂 | 第96页 |
4.3 Rh/SiO_2-acac的物化表征 | 第96-105页 |
4.3.1 XRD表征 | 第96-97页 |
4.3.2 TG-DTG和TPR表征 | 第97-99页 |
4.3.3 Raman表征 | 第99-100页 |
4.3.4 TEM表征 | 第100-105页 |
4.4 CeO_2的添加对Rh/SiO_2催化剂的稳定作用 | 第105-137页 |
4.4.1 甲烷部分氧化(POM)和甲烷二氧化碳重整(DRM)制合成气反应性能评价 | 第105-109页 |
4.4.2 XRD表征 | 第109-112页 |
4.4.3 TG-DTG表征 | 第112-114页 |
4.4.4 H_2-TPR表征 | 第114-120页 |
4.4.4.1 不同负载量的x%CeO_2/SiO_2和x%Rh-y%CeO_2/SiO_2催化剂的H_2-TPR表征 | 第114-116页 |
4.4.4.2 不同温度焙烧的样品的H_2-TPR表征 | 第116-120页 |
4.4.5 XPS表征 | 第120-132页 |
4.4.6 TEM表征 | 第132-137页 |
4.5 以硝酸盐为前驱体制备的Rh-CeO_2/SiO_2催化剂 | 第137-155页 |
4.5.1 XRD表征 | 第137-140页 |
4.5.2 TG表征 | 第140-142页 |
4.5.3 H_2-TPR表征 | 第142-149页 |
4.5.4 TEM表征 | 第149-155页 |
4.6 本章小结 | 第155-157页 |
参考文献 | 第157-162页 |
第五章 抗烧结Rh-Sm_2O_3/SiO_2催化剂的制备和表征及其甲烷部分氧化制合成气性能 | 第162-180页 |
5.1 引言 | 第162-163页 |
5.2 催化剂的制备及标注 | 第163页 |
5.2.1 以乙酰丙酮盐为前驱体制备Rh-Sm_2O_3/SiO_2 | 第163页 |
5.2.2 以硝酸盐为前驱体制备Rh-Sm_2O_3/SiO_2 | 第163页 |
5.3 催化剂的物化表征 | 第163-175页 |
5.3.1 BET测试和TEM表征 | 第163-165页 |
5.3.2 IR和TG-DTG表征 | 第165-169页 |
5.3.3 XRD表征 | 第169-171页 |
5.3.4 TPR和XPS表征 | 第171-173页 |
5.3.5 POM反应性能测试及TEM表征 | 第173-175页 |
5.4 结论 | 第175-177页 |
参考文献 | 第177-180页 |
发表的论文 | 第180-182页 |
致谢 | 第182页 |