摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 拉曼光谱仪国内外研究现状 | 第11-15页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第11-14页 |
1.2.2 国内拉曼光谱仪研究现状 | 第14-15页 |
1.3 拉曼光谱仪发展的趋势 | 第15-16页 |
1.4 阵列波导光栅(AWG)和光电探测器(PD)现有的集成方案 | 第16-20页 |
1.5 结论 | 第20-21页 |
1.6 本文主要研究内容 | 第21-23页 |
第二章 光电探测器的制作与测试 | 第23-33页 |
2.1 光电探测器的基本原理 | 第23页 |
2.2 硅基光电探测器的主要性能参数 | 第23-25页 |
2.2.1 量子效率 | 第23-24页 |
2.2.2 响应度 | 第24页 |
2.2.3 暗电流 | 第24-25页 |
2.3 光电探测器的版图的设计与制作 | 第25-31页 |
2.3.1 光电探测器版图的设计 | 第25-26页 |
2.3.2 光电探测器抗反膜的设计 | 第26-27页 |
2.3.3 硅基光电探测器制作流程 | 第27-31页 |
2.4 硅基光电探测器的测试 | 第31-32页 |
2.4.1 测试系统 | 第31-32页 |
2.4.2 测试结果 | 第32页 |
2.5 小结 | 第32-33页 |
第三章 AWG芯片的设计与工艺参数的优化 | 第33-47页 |
3.1 AWG的原理及版图的设计仿真 | 第33-38页 |
3.1.1 罗兰圆原理 | 第33-34页 |
3.1.2 AWG基本原理 | 第34-38页 |
3.2 AWG参数及版图的设计 | 第38-42页 |
3.3 AWG芯片参数的优化 | 第42-46页 |
3.4 小结 | 第46-47页 |
第四章 AWG芯片制作和测试 | 第47-59页 |
4.1 AWG的制备和工艺流程 | 第47-54页 |
4.1.1 二氧化硅薄膜的制备 | 第47页 |
4.1.2 阵列波导光栅的制备流程 | 第47-54页 |
4.2 AWG测试系统 | 第54-56页 |
4.3 AWG芯片测试结果 | 第56-58页 |
4.4 小结 | 第58-59页 |
第五章 AWG与PD单片集成的设计 | 第59-71页 |
5.1 反射镜耦合效率仿真 | 第60-63页 |
5.2 AWG和PD单片集成的工艺流程 | 第63-69页 |
5.3 小结 | 第69-71页 |
第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
6.1 总结 | 第71-72页 |
6.2 展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
在学期间发表成果 | 第78页 |