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过渡金属二硫族化合物MX2二维半导体及Nb3SiTe6电子结构和自旋结构研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第14-30页
    1.1 引言第14页
    1.2 过渡金属二硫族化合物介绍第14-18页
        1.2.1 过渡金属二硫族化合物简介第14-16页
        1.2.2 过渡金属二硫族化合物晶体结构第16-17页
        1.2.3 过渡金属二硫族化合物电子结构第17-18页
    1.3 过渡金属二硫族化合物电子特性第18-26页
        1.3.1 间接带隙到直接带隙的转变第18-19页
        1.3.2 高对称点K能带劈裂第19-21页
        1.3.3 单层TMDC spin-valley locking第21-22页
        1.3.4 谷霍尔效应及旋光选择性第22-24页
        1.3.5 激子效应第24-26页
    1.4 过渡金属二硫族化合物应用第26-30页
        1.4.1 晶体管第26-27页
        1.4.2 光电子学应用第27-28页
        1.4.3 其他应用第28-30页
第2章 角分辨光电子能谱原理与技术第30-61页
    2.1 角分辨光电子能谱基本原理第31-35页
    2.2 角分辨光电子能谱相关理论第35-42页
        2.2.1 单步模型与三步模型第35-38页
        2.2.2 突发近似第38-39页
        2.2.3 单粒子谱函数第39-40页
        2.2.4 矩阵元效应第40-42页
    2.3 角分辨光电子能谱实验技术第42-48页
        2.3.1 光源第42-46页
        2.3.2 超高真空系统第46页
        2.3.3 低温样品转角仪第46-47页
        2.3.4 电子能量分析器第47-48页
    2.4 11eV激光第48-51页
    2.5 偏振调节装置第51-55页
    2.6 SPECS气体放电灯第55-56页
    2.7 自旋探测器第56-61页
        2.7.1 Mott散射和VLEED散射比较第56-57页
        2.7.2 VLEED自旋探测器第57-58页
        2.7.3 Mott散射第58-61页
第3章 关于过渡金属二硫族化合物块材碱金属沉积的研究第61-68页
    3.1 背景介绍第61-63页
    3.2 K掺杂块材WSe_2第63-64页
    3.3 K掺杂块材MoS_2第64-65页
    3.4 Rb掺杂块材MoS_2第65-66页
    3.5 结论第66-68页
第4章 关于原子层厚度的2H-MoTe_2单晶的ARPES研究第68-90页
    4.1 背景介绍第68-69页
    4.2 实验条件第69-70页
    4.3 样品表征第70-72页
    4.4 单层MoTe_2电子结构第72-77页
    4.5 双层MoTe_2电子结构第77-81页
    4.6 多层MoTe_2电子结构第81-84页
    4.7 单层,双层和多层MoTe_2K能谷附近能带的比较第84-87页
    4.8 K能谷处能带劈裂讨论第87-88页
    4.9 结论第88-90页
第5章 关于单原子层厚度的2H-WSe_2单晶的ARPES研究第90-100页
    5.1 背景介绍第90页
    5.2 实验条件第90-91页
    5.3 实验结果及讨论第91-98页
    5.4 高对称点电子有效质量讨论第98页
    5.5 结论第98-100页
第6章 关于Nb_3SiTe_6块材电子结构的ARPES研究第100-110页
    6.1 背景介绍第100页
    6.2 实验条件第100页
    6.3 实验结果及讨论第100-108页
    6.4 结论第108-110页
第7章 关于单层WSe_2的自旋分辨角分辨光电子能谱测量第110-119页
    7.1 背景介绍第110页
    7.2 实验条件第110-111页
    7.3 实验结果及讨论第111-118页
    7.4 结论第118-119页
第8章 总结第119-121页
参考文献第121-130页
个人简历及发表文章目录第130-132页
致谢第132-133页

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