| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第16-30页 |
| 1.1 课题来源及研究目的意义 | 第16-17页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第16页 |
| 1.1.2 研究的目的及意义 | 第16-17页 |
| 1.2 瓷砖加工装备发展现状 | 第17-21页 |
| 1.3 在不同工序中瓷砖加工机理及设备研究现状 | 第21-28页 |
| 1.3.1 刮平工序中瓷砖加工机理及设备研究现状 | 第21-23页 |
| 1.3.2 抛光工序中瓷砖加工机理及设备研究现状 | 第23-28页 |
| 1.3.3 镀膜工序中瓷砖加工机理及设备研究现状 | 第28页 |
| 1.4 课题研究的内容 | 第28-30页 |
| 第2章 瓷砖表面抛光成形机理研究 | 第30-41页 |
| 2.1 引言 | 第30页 |
| 2.2 瓷砖抛光机结构与工作原理 | 第30-32页 |
| 2.3 瓷砖抛光机磨头结构与工作原理 | 第32-33页 |
| 2.4 瓷砖表面抛光成形机理 | 第33-40页 |
| 2.4.1 抛光磨头在双向力作用下的运动轨迹方程 | 第34-35页 |
| 2.4.2 抛光磨头摆动的运动轨迹方程 | 第35-36页 |
| 2.4.3 抛光磨头在瓷砖表面上的合成运动轨迹方程 | 第36-38页 |
| 2.4.4 在回转-冲击联合作用下抛光磨头破碎瓷砖机理 | 第38-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 瓷砖抛光机磨头运动学研究 | 第41-55页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 磨头几何学基本方程 | 第41-46页 |
| 3.2.1 复合圆柱坐标系建立 | 第41-43页 |
| 3.2.2 磨块上的磨粒在运动坐标系中的位置 | 第43-44页 |
| 3.2.3 磨块上的磨粒在固定坐标系中的位置 | 第44-46页 |
| 3.3 磨头运动学基本方程 | 第46-54页 |
| 3.3.1 磨头运动速度方程 | 第46-52页 |
| 3.3.2 磨头加速度方程 | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 瓷砖抛光机磨头动力学研究 | 第55-66页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 磨头激振力方程 | 第55-59页 |
| 4.2.1 磨头坐标系 | 第55页 |
| 4.2.2 磨头激振力的产生 | 第55-57页 |
| 4.2.3 磨头激振力方程 | 第57-59页 |
| 4.3 磨头垂直方向动力学模型 | 第59-63页 |
| 4.3.1 磨块座系统运行分析 | 第59-60页 |
| 4.3.2 磨块座系统力学模型 | 第60-61页 |
| 4.3.3 磨块座系统动力学模型 | 第61-63页 |
| 4.4 磨块摆动对磨头扭转振动减振机理 | 第63-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 瓷砖表面抛光成形试验研究 | 第66-95页 |
| 5.1 引言 | 第66页 |
| 5.2 试验设计 | 第66-72页 |
| 5.2.1 瓷砖抛光生产线介绍 | 第66-68页 |
| 5.2.2 主要试验设备及其技术参数 | 第68-70页 |
| 5.2.3 主要工序加工参数配置 | 第70-72页 |
| 5.2.4 加工瓷砖参数 | 第72页 |
| 5.3 试验仪器及测点 | 第72-74页 |
| 5.4 试验结果与分析 | 第74-94页 |
| 5.4.1 刮平瓷砖形貌分析 | 第74-79页 |
| 5.4.2 抛光瓷砖形貌分析 | 第79-85页 |
| 5.4.3 纳米液涂覆瓷砖形貌分析 | 第85-89页 |
| 5.4.4 瓷砖表面轨迹形貌分析 | 第89-94页 |
| 5.5 本章小结 | 第94-95页 |
| 第6章 瓷砖抛光机磨头振动试验研究 | 第95-112页 |
| 6.1 引言 | 第95页 |
| 6.2 试验设备及参数 | 第95-96页 |
| 6.3 试验仪器以及测点 | 第96-97页 |
| 6.4 试验结果与分析 | 第97-111页 |
| 6.4.1 磨头振动分析 | 第97-98页 |
| 6.4.2 磨头振动正交实验及结果分析 | 第98-104页 |
| 6.4.3 不同转速下的磨头振动正交实验及结果分析 | 第104-111页 |
| 6.5 本章小结 | 第111-112页 |
| 结论 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-121页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
