| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 目录 | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-24页 |
| 第2章 实验设计与实验方法 | 第24-32页 |
| 2.1 实验设计及模拟软件 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验设计 | 第24页 |
| 2.1.2 TFCalc 光学模拟软件 | 第24-25页 |
| 2.2 减反射膜的制备及退火设备 | 第25-27页 |
| 2.2.1 电子束蒸发镀膜设备 | 第25-26页 |
| 2.2.2 快速热处理设备 | 第26-27页 |
| 2.3 镀膜工艺流程 | 第27-29页 |
| 2.3.1 实验前的准备工作 | 第27-28页 |
| 2.3.2 镀膜过程中的主要操作步骤 | 第28页 |
| 2.3.3 退火处理过程中的主要操作步骤 | 第28-29页 |
| 2.4 减反射膜的组织结构表征方法 | 第29-30页 |
| 2.4.1 X 射线衍射仪（XRD）分析 | 第29-30页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜分析 | 第30页 |
| 2.5 减反射膜性能的测试方法 | 第30-31页 |
| 2.5.1 减反射膜厚度和折射率的测量 | 第30页 |
| 2.5.2 紫外-可见光吸收/反射谱（UV-Vis） | 第30-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 TiO_2薄膜的制备工艺研究 | 第32-52页 |
| 3.1 TiO_2薄膜的晶体结构及应用 | 第32-34页 |
| 3.1.1 TiO_2薄膜的晶体结构 | 第32-33页 |
| 3.1.2 TiO_2薄膜的应用 | 第33-34页 |
| 3.2 TiO_2薄膜制备方法的选取 | 第34-36页 |
| 3.2.1 电子束蒸发法 | 第34页 |
| 3.2.2 溶胶一凝胶法 | 第34页 |
| 3.2.3 磁控溅射法 | 第34-35页 |
| 3.2.4 离子束溅射法 | 第35页 |
| 3.2.5 化学气相沉积法 | 第35页 |
| 3.2.6 热解法 | 第35-36页 |
| 3.3 工艺参数对 TiO_2 薄膜的影响 | 第36-51页 |
| 3.3.1 薄膜表面形貌的研究 | 第36-41页 |
| 3.3.2 薄膜折射率的研究 | 第41-44页 |
| 3.3.3 薄膜沉积厚度的研究 | 第44-49页 |
| 3.3.4 退火处理对 TiO_2薄膜结构的影响 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 MgF_2薄膜的制备工艺研究 | 第52-68页 |
| 4.1 MgF_2薄膜的晶体结构性及应用 | 第53-54页 |
| 4.1.1 MgF_2薄膜的晶体结构 | 第53页 |
| 4.1.2 MgF_2薄膜的应用 | 第53-54页 |
| 4.2 MgF_2薄膜的制备方法选取 | 第54-56页 |
| 4.2.1 溶胶—凝胶法 | 第54页 |
| 4.2.2 脉冲激光淀积法 | 第54页 |
| 4.2.3 磁控溅射法 | 第54-55页 |
| 4.2.4 电子束热蒸发法 | 第55-56页 |
| 4.3 工艺参数对 MgF_2薄膜的影响 | 第56-66页 |
| 4.3.1 薄膜表面形貌的研究 | 第56-59页 |
| 4.3.2 薄膜折射率的研究 | 第59-62页 |
| 4.3.3 薄膜沉积厚度的研究 | 第62-64页 |
| 4.3.4 薄膜结构分析 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 MgF_2/TiO_2双层减反射薄膜的研究 | 第68-72页 |
| 5.1 基于 TFC 软件的 MgF_2/TiO_2双层减反射膜的优化设计 | 第68-70页 |
| 5.1.1 设计理论 | 第68-69页 |
| 5.1.2 MgF_2/TiO_2双层减反射膜的优化结果和讨论 | 第69-70页 |
| 5.2 MgF_2/TiO_2双层减反射膜的反射率研究 | 第70-71页 |
| 5.2.1 退火温度对 MgF_2/TiO_2双层减反射膜反射率的影响 | 第70-71页 |
| 5.2.2 实验测得的反射率与软件模拟得到的薄膜反射率的比较 | 第71页 |
| 5.3 本章小结 | 第71-72页 |
| 第6章 结论与展望 | 第72-75页 |
| 6.1 主要结论 | 第72-74页 |
| 6.2 存在的问题和后续工作 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻读硕士期间发表的主要论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
