| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第12-13页 |
| 1.2 抛光技术概况 | 第13-16页 |
| 1.2.1 机械抛光 | 第13-14页 |
| 1.2.2 化学抛光和电解抛光 | 第14-15页 |
| 1.2.3 化学机械抛光 | 第15-16页 |
| 1.2.4 超声波抛光和磁研磨抛光 | 第16页 |
| 1.3 等离子体技术的研究现状 | 第16-26页 |
| 1.3.1 等离子体技术的发展和等离子体的分类 | 第16-20页 |
| 1.3.2 气体放电理论 | 第20-24页 |
| 1.3.3 等离子体抛光技术的现状 | 第24-26页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 电解质等离子抛光作用机制研究 | 第28-53页 |
| 2.1 电解质等离子抛光作用机制研究 | 第28-38页 |
| 2.1.1 抛光放电机理 | 第28-32页 |
| 2.1.2 抛光液成分的影响 | 第32-35页 |
| 2.1.3 电压、电流和伏安特性曲线 | 第35-38页 |
| 2.2 电解质等离子抛光对不锈钢表面状态影响 | 第38-52页 |
| 2.2.1 实验方案与设备 | 第38-41页 |
| 2.2.2 实验结果与分析 | 第41-52页 |
| 2.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第3章 电解质等离子抛光材料去除速度和表面粗糙度的研究 | 第53-75页 |
| 3.1 电解质等离子抛光材料去除速度的研究 | 第53-66页 |
| 3.1.1 材料去除的热传导和工件表面获得的能量分析 | 第53-56页 |
| 3.1.2 去除速度和电流密度的关系 | 第56-59页 |
| 3.1.3 材料去除速度实验研究 | 第59-66页 |
| 3.2 电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 | 第66-73页 |
| 3.2.1 数学模型的建立 | 第66-68页 |
| 3.2.2 曲线拟合和模型修正 | 第68-71页 |
| 3.2.3 数学模型的验证 | 第71-73页 |
| 3.3 本章小结 | 第73-75页 |
| 第4章 电解质等离子抛光工艺研究 | 第75-98页 |
| 4.1 电解质等离子抛光工艺参数的优选 | 第75-83页 |
| 4.1.1 正交实验设计 | 第75-77页 |
| 4.1.2 正交实验指标、因素及水平 | 第77-79页 |
| 4.1.3 正交实验结果与分析 | 第79-83页 |
| 4.2 电解质等离子抛光硫酸铵抛光液浓度检测方法 | 第83-91页 |
| 4.2.1 抛光过程中电导率和电流密度的变化 | 第83-87页 |
| 4.2.2 硫酸铵抛光液浓度检测方法 | 第87-90页 |
| 4.2.3 检测方法的可行性验证 | 第90-91页 |
| 4.3 形状复杂工件电解质等离子抛光工艺研究 | 第91-97页 |
| 4.4 本章小结 | 第97-98页 |
| 第5章 电解质等离子抛光设备研究 | 第98-112页 |
| 5.1 总体概况 | 第98-99页 |
| 5.2 控制和操作系统选择 | 第99-102页 |
| 5.3 主机设计 | 第102-108页 |
| 5.3.1 主机结构 | 第102页 |
| 5.3.2 挂架及升降装置 | 第102-105页 |
| 5.3.3 循环搅拌冷却装置 | 第105-108页 |
| 5.4 主要特点和加工实例 | 第108-111页 |
| 5.5 本章小结 | 第111-112页 |
| 结论 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-122页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第122-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
| 个人简历 | 第125页 |