| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 含能薄膜材料的研究现状 | 第9-15页 |
| 1.2.1 二元异质金属含能薄膜材料 | 第9-11页 |
| 1.2.2 铝热含能薄膜材料 | 第11-13页 |
| 1.2.3 有机含能薄膜材料 | 第13-15页 |
| 1.3 含能半导体桥的研究现状 | 第15-20页 |
| 1.3.1 二元异质金属含能薄膜半导体桥 | 第15-17页 |
| 1.3.2 金属/氧化物含能半导体桥 | 第17-20页 |
| 1.4 本文研究主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的制备及表征 | 第22-31页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的制备 | 第22-24页 |
| 2.2.1 实验用试剂与仪器 | 第22-23页 |
| 2.2.2 制备过程 | 第23-24页 |
| 2.3 聚苯乙烯球胶晶模板和3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的表征 | 第24-30页 |
| 2.3.1 聚苯乙烯球胶晶模板的微观形貌表征 | 第24页 |
| 2.3.2 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的微观形貌分析 | 第24-25页 |
| 2.3.3 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的TEM分析 | 第25-26页 |
| 2.3.4 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的EDS分析 | 第26-27页 |
| 2.3.5 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的XRD分析 | 第27-28页 |
| 2.3.6 3DOM-Fe_2O_3骨架薄膜的氮气吸附-脱附分析 | 第28-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的制备及表征 | 第31-39页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的制备 | 第31-33页 |
| 3.2.1 磁控溅射工作原理及实验所需试剂与仪器 | 第31-32页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第32-33页 |
| 3.3 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的表征 | 第33-38页 |
| 3.3.1 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的SEM表征 | 第33-34页 |
| 3.3.2 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的TEM表征 | 第34页 |
| 3.3.3 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的XRD表征 | 第34-35页 |
| 3.3.4 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的EDS表征 | 第35-36页 |
| 3.3.5 3DOM-Al/Fe_2O_3含能薄膜的DSC表征 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 Al/Fe_2O_3含能半导体桥制备及性能测试 | 第39-54页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 Al/Fe_2O_3含能半导体桥的制备 | 第39-42页 |
| 4.3 Al/Fe_2O_3含能半导体桥的电爆性能测试 | 第42-48页 |
| 4.3.1 电爆性能测试方法与原理 | 第42-43页 |
| 4.3.2 SCB伏安特性曲线分析 | 第43-44页 |
| 4.3.3 电爆性能测试结果 | 第44-48页 |
| 4.4 Al/Fe_2O_3含能半导体桥的高速摄影图像分析 | 第48-53页 |
| 4.4.1 多晶硅SCB和Al/Fe_2O_3含能半导体桥的高速摄影图像对比分析 | 第49-51页 |
| 4.4.2 不同充电电压下Al/Fe_2O_3含能半导体桥的高速摄影图像分析 | 第51-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 个人简历 | 第62页 |
