谐振腔谐振参数的优化与设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.3 存在的问题和发展趋势 | 第12-13页 |
| 1.4 论文研究内容 | 第13-16页 |
| 第二章 “左手材料” | 第16-22页 |
| 2.1 “左手材料”的性质 | 第16-19页 |
| 2.1.1 反常Cherenkov辐射 | 第17-18页 |
| 2.1.2 逆Doppler效应 | 第18页 |
| 2.1.3 反常Goos-Hanchen位移 | 第18-19页 |
| 2.2 有关“左手材料”合成的研究 | 第19-22页 |
| 2.2.1 金属谐振结构 | 第19页 |
| 2.2.2 传输线结构 | 第19-22页 |
| 第三章 理论分析 | 第22-28页 |
| 3.1 谐振腔模型的建立 | 第22-23页 |
| 3.2 真空谐振腔理论分析 | 第23-24页 |
| 3.3 介质谐振腔理论分析 | 第24-28页 |
| 3.3.1 谐振频率 | 第25-26页 |
| 3.3.2 品质因数 | 第26-28页 |
| 第四章 谐振腔的尺寸优化 | 第28-34页 |
| 4.1 模拟与仿真 | 第28-30页 |
| 4.1.1 圆柱谐振腔式的MPCVD装置 | 第28-29页 |
| 4.1.2 微波等离子体放电系统 | 第29-30页 |
| 4.2 仿真结果 | 第30-33页 |
| 4.3 数据分析 | 第33-34页 |
| 第五章 左手材料对谐振腔品质参数的优化 | 第34-46页 |
| 5.1 微波谐振腔简化模型的建立 | 第35-37页 |
| 5.2 理论分析与模拟验证 | 第37-44页 |
| 5.2.1 电磁场的分布 | 第37-40页 |
| 5.2.2 品质因数 | 第40-42页 |
| 5.2.3 谐振频率 | 第42-44页 |
| 5.3 数据分析 | 第44-46页 |
| 第六章 总结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
