磁控溅射沉积系统设计
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究意义 | 第10页 |
| 1.2 沉积系统的研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 靶装置研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.2 等离子体源的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.3 阳极清洗装置研究现状 | 第14页 |
| 1.3 选题依据 | 第14页 |
| 1.4 研究的目的、内容及思路 | 第14-16页 |
| 第2章 磁控溅射沉积系统设计 | 第16-22页 |
| 2.1 磁控溅射沉积系统结构 | 第16-17页 |
| 2.2 真空系统和腔体 | 第17-20页 |
| 2.2.1 真空系统 | 第17-18页 |
| 2.2.2 真空腔体的主要尺寸 | 第18-20页 |
| 2.3 磁控溅射靶装置设计 | 第20页 |
| 2.4 等离子体源设计 | 第20页 |
| 2.5 阳极清洗装置设计 | 第20-22页 |
| 第3章 磁流体密封旋转磁控溅射靶 | 第22-34页 |
| 3.1 靶装置工作原理 | 第22-23页 |
| 3.2 靶装置结构 | 第23-24页 |
| 3.3 真空密封设计 | 第24-27页 |
| 3.3.1 靶材、轴与靶材堵头之间的密封 | 第25-26页 |
| 3.3.2 磁流体密封 | 第26-27页 |
| 3.4 旋转磁钢设计 | 第27-31页 |
| 3.4.1 旋转磁钢的发射模式 | 第29-31页 |
| 3.5 驱动端的设计 | 第31-33页 |
| 3.5.1 驱动电机的选择 | 第31-32页 |
| 3.5.2 传动装置的选择 | 第32-33页 |
| 3.5.3 轴承的选择 | 第33页 |
| 3.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 等离子体源的设计 | 第34-42页 |
| 4.1 离子源的工作原理 | 第34-35页 |
| 4.2 等离子体源结构设计 | 第35-40页 |
| 4.2.1 等离子体源对磁路的要求 | 第35-36页 |
| 4.2.2 材料的选取 | 第36页 |
| 4.2.3 螺旋管的设计 | 第36-38页 |
| 4.2.4 阳极、阴极的设计 | 第38-40页 |
| 4.3 等离子体源的电源连接方式 | 第40页 |
| 4.4 离子源辅助镀膜 | 第40-41页 |
| 4.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 阳极清洗装置设计 | 第42-55页 |
| 5.1 离子刻蚀清洗 | 第42-44页 |
| 5.2 阳极装置的设计 | 第44-46页 |
| 5.3 阳极清洗装置的电源连接 | 第46-47页 |
| 5.4 阳极清洗装置冷却系统设计 | 第47-52页 |
| 5.4.1 设计要求和措施 | 第49-50页 |
| 5.4.2 冷却水管内径的计算 | 第50-51页 |
| 5.4.3 冷却水管的长度计算 | 第51-52页 |
| 5.5 进气系统设计 | 第52-54页 |
| 5.5.1 流量计的选择 | 第52-53页 |
| 5.5.2 电磁阀的选型 | 第53-54页 |
| 5.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 个人简介 | 第61页 |
