| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 超疏水表面的定义 | 第9页 |
| 1.2 超疏水表面的研究意义 | 第9-11页 |
| 1.3 金属基超疏水表面的研究现状 | 第11-19页 |
| 1.3.1 刻蚀法 | 第11-14页 |
| 1.3.2 沉积法 | 第14-16页 |
| 1.3.3 表面层反应法 | 第16-19页 |
| 1.4 存在问题与本文研究思路 | 第19-20页 |
| 2 相关理论基础 | 第20-30页 |
| 2.1 固体表面润湿性理论模型 | 第20-23页 |
| 2.1.1 Young氏模型 | 第20-21页 |
| 2.1.2 Wenzel模型 | 第21-22页 |
| 2.1.3 Cassie-Baxter模型 | 第22-23页 |
| 2.2 掩膜微细加工相关理论 | 第23-29页 |
| 2.2.1 光刻技术相关理论 | 第23-24页 |
| 2.2.2 电化学刻蚀技术相关理论 | 第24-28页 |
| 2.2.3 化学刻蚀技术相关理论 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 掩膜微细加工金属铝、铜基体圆柱阵列微结构 | 第30-50页 |
| 3.1 掩膜微细电化学加工铝基体圆柱阵列微结构 | 第30-43页 |
| 3.1.1 试验准备 | 第31-34页 |
| 3.1.2 光刻加工参数对掩膜图案的影响 | 第34-38页 |
| 3.1.3 电化学加工参数对圆柱阵列结构尺寸的影响 | 第38-43页 |
| 3.2 掩膜微细化学加工铜基体阵列微结构 | 第43-48页 |
| 3.2.1 试验准备 | 第44-45页 |
| 3.2.2 光刻加工参数对掩膜图案的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3 化学加工参数对圆柱阵列结构尺寸的影响 | 第46-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 圆柱阵列微结构尺寸对润湿性的影响 | 第50-61页 |
| 4.1 铝基体圆柱阵列微结构尺寸对润湿性的影响 | 第50-52页 |
| 4.2 铝基体圆柱阵列微结构润湿性的理论模型分析 | 第52-56页 |
| 4.3 铜表面圆柱阵列微结构尺寸对润湿性的影响 | 第56-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |