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间苯二甲腈催化加氢合成间苯二甲胺的研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 文献综述第11-40页
    1.1 概述第11-18页
        1.1.1 间苯二甲腈(IPN)与间苯二甲胺(MXDA)的性质第11-14页
        1.1.2 间苯二甲胺的用途第14-15页
        1.1.3 间苯二甲胺(MXDA)的生产工艺第15-17页
        1.1.4 间苯二甲胺的生产现状第17-18页
    1.2 催化腈加氢反应的机理第18-22页
        1.2.1 助剂对腈加氢反应影响的机理第20-21页
        1.2.2 腈类化合物加氢的催化机理模型研究第21-22页
    1.3 腈加氢催化剂第22-28页
        1.3.1 催化剂性能的影响因素第22-24页
        1.3.2 腈加氢催化剂的研究现状第24-28页
    1.4 反应条件对腈加氢的影响第28-32页
        1.4.1 溶剂的影响第28-30页
        1.4.2 温度和压力的影响第30-31页
        1.4.3 抑制剂的影响第31-32页
    1.5 立题依据与研究思路第32-34页
        1.5.1 立题依据第32页
        1.5.2 研究思路第32-33页
        1.5.3 研究内容第33-34页
    参考文献第34-40页
第二章 实验部分第40-49页
    2.1 试剂与仪器第40-41页
    2.2 催化剂的制备第41-42页
        2.2.1 二氧化硅载体的预处理第41页
        2.2.2 浸渍步骤第41页
        2.2.3 干燥步骤第41页
        2.2.4 焙烧还原步骤第41-42页
    2.3 反应评价第42-44页
        2.3.1 反应釜中的催化加氢第42-43页
        2.3.2 固定床中的催化加氢第43-44页
    2.4 分析仪器及分析方法第44-45页
        2.4.1 产物定性分析第44页
        2.4.2 产物定量分析第44-45页
    2.5 催化剂性能评价指标第45页
    2.6 催化剂表征第45-48页
        2.6.1 X射线衍射(XRD)测晶相结构第45页
        2.6.2 XPS分析第45-46页
        2.6.3 氢气程序升温还原(H_2-TPR)第46页
        2.6.4 BET法测定催化剂比表面积及孔道性质第46页
        2.6.5 透射电镜显微镜(TEM)第46-48页
    参考文献第48-49页
第三章 过渡金属助剂对镍基催化剂性能的影响第49-58页
    3.1 助剂对Ni/SiO_2催化剂在加氢制备MXDA反应中的影响第49-53页
        3.1.1 XPS表征第51-52页
        3.1.2 TEM表征第52-53页
        3.1.3 H_2-TPR表征第53页
    3.2 NiRu/SiO_2催化剂在加氢制备MXDA反应中的套用情况第53-54页
    3.3 本章小结第54-56页
    参考文献第56-58页
第四章 扩散及金属配比对间苯二甲腈加氢反应的影响第58-74页
    4.1 NiRu/SiO_2催化剂在加氢制备MXDA反应中内扩散效应的影响第59-69页
        4.1.1 NiRu/SiO_2催化剂的颗粒粒径对加氢反应的影响第59-60页
        4.1.2 NiRu/SiO_2催化剂的孔径大小对加氢反应的影响第60-63页
        4.1.3 NiRu/SiO_2催化剂金属配比对加氢反应的影响第63-69页
    4.2 NiRu/SiO_2催化剂在加氢制备MXDA反应中外扩散效应的考察第69-70页
    4.3 温度对催化加氢制备MXDA反应的影响第70-71页
    4.4 总结第71-72页
    参考文献第72-74页
第五章 载体的性质和结构对加氢反应的影响第74-82页
    5.1 不同载体催化剂在加氢制备MXDA反应中的影响第74-76页
    5.2 制备方法对催化剂在加氢制备MXDA反应中的影响第76-81页
    参考文献第81-82页
第六章 结论与展望第82-85页
    6.1 结论第82-83页
        6.1.1 过渡金属助剂对镍基催化剂催化间苯二甲腈加氢性能的影响第82页
        6.1.2 扩散及金属配比对间苯二甲腈加氢反应的影响第82-83页
        6.1.3 载体的性质和结构对间苯二甲腈加氢反应的影响第83页
    6.2 展望第83-85页
附录第85-86页
致谢第86页

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