| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 铜氧化物超导概述 | 第10-22页 |
| 1.2.1 铜氧化物超导体的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 铜氧化物超导体的相图 | 第12-14页 |
| 1.2.3 铜和稀土元素在超导体中的磁学性能 | 第14-15页 |
| 1.2.4 氧的化学计量比与电子型超导材料性能 | 第15-19页 |
| 1.2.5 稀土掺杂与电子型铜氧化物超导性能 | 第19-20页 |
| 1.2.6 电子型铜氧化物超导材料的制备现状 | 第20-22页 |
| 1.3 粉体与陶瓷制备简介 | 第22-23页 |
| 1.4 脉冲激光沉积法简介 | 第23-25页 |
| 1.5 本论文的工作及意义 | 第25-27页 |
| 第二章 实验和测试方法 | 第27-33页 |
| 2.1 实验原料和设备 | 第27-28页 |
| 2.2 实验过程 | 第28-30页 |
| 2.2.1 溶胶-凝胶法制备粉体和靶材 | 第28-29页 |
| 2.2.2 激光脉冲沉积法制备薄膜 | 第29-30页 |
| 2.3 分析测试 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 Nd_(1.85)Ce_(0.15)CuO_(4-δ)粉体材料及靶材制备 | 第33-59页 |
| 3.1 EDTA-乙二胺体系制备粉体和陶瓷 | 第33-41页 |
| 3.1.1 粉体制备及其性能研究 | 第33-39页 |
| 3.1.2 靶材制备 | 第39-41页 |
| 3.2 EDTA-氨水体系制备粉体和陶瓷 | 第41-53页 |
| 3.2.1 粉体制备及其性能研究 | 第42-47页 |
| 3.2.2 靶材制备 | 第47-53页 |
| 3.3 粉体的TEM和Raman研究 | 第53-57页 |
| 3.3.1 粉体的TEM研究 | 第53-57页 |
| 3.3.2 粉体的Raman光谱研究 | 第57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 溶胶-凝胶法成相机制及靶材烧结机理 | 第59-69页 |
| 4.1 溶胶-凝胶法成相机制 | 第59-64页 |
| 4.1.1 溶胶-凝胶法成相机制 | 第59-61页 |
| 4.1.2 溶胶-凝胶法成相机制对实验现象的解释 | 第61-64页 |
| 4.2 靶材烧结机理 | 第64-67页 |
| 4.2.1 烧结机理 | 第64-67页 |
| 4.2.2 电阻率 | 第67页 |
| 4.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 Nd_(1.85)Ce_(0.15)CuO_(4-δ)薄膜的制备 | 第69-77页 |
| 5.1 薄膜的物相分析 | 第69-72页 |
| 5.2 薄膜的形貌分析 | 第72-74页 |
| 5.3 薄膜的Raman分析 | 第74-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 6.1 结论 | 第77-78页 |
| 6.2 创新点 | 第78页 |
| 6.3 展望 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 附录A 发表的文章 | 第89页 |