摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 光催化原理 | 第9-10页 |
1.3 光催化技术现存问题 | 第10-11页 |
1.4 光催化材料的改进方法 | 第11-14页 |
1.4.1 离子掺杂 | 第11-12页 |
1.4.2 金属负载 | 第12-14页 |
1.4.3 半导体复合 | 第14页 |
1.5 铋系光催化剂的研究进展 | 第14-16页 |
1.5.1 铋系复合氧化物 | 第14-16页 |
1.5.2 卤氧化铋 | 第16页 |
1.6 论文主要工作 | 第16-18页 |
第二章 实验及表征方法 | 第18-23页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第18-19页 |
2.1.1 实验试剂 | 第18页 |
2.1.2 实验仪器及设备 | 第18-19页 |
2.2 光催化剂的制备 | 第19页 |
2.3 样品的表征与测试 | 第19-21页 |
2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第19页 |
2.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第19-20页 |
2.3.3 透射电子显微镜分析(TEM) | 第20页 |
2.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第20页 |
2.3.5 紫外可见漫反射光谱分析(UV-Vis) | 第20-21页 |
2.4 光催化性能测试体系与评价方法 | 第21-23页 |
2.4.1 实验装置 | 第21页 |
2.4.2 实验方法 | 第21-23页 |
第三章 BIVO_4/BIOCL复合半导体的制备与性能研究 | 第23-37页 |
3.1 引言 | 第23-24页 |
3.2 制备方法 | 第24-25页 |
3.3 结果与讨论 | 第25-36页 |
3.3.1 晶相分析 | 第25-26页 |
3.3.2 SEM和TEM分析 | 第26-28页 |
3.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第28-29页 |
3.3.4 紫外-可见漫反射光谱 | 第29-30页 |
3.3.5 光催化性能测试 | 第30-34页 |
3.3.6 光催化机理 | 第34-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
第四章 BI/BIOCL异质结的制备及其性能研究 | 第37-50页 |
4.1 引言 | 第37-38页 |
4.2 样品制备 | 第38页 |
4.3 结果与讨论 | 第38-49页 |
4.3.1 XRD分析 | 第38-39页 |
4.3.2 SEM与TEM分析 | 第39-43页 |
4.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第43-44页 |
4.3.4 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第44-45页 |
4.3.5 光催化性能测试 | 第45-46页 |
4.3.6 光催化机理分析 | 第46-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-50页 |
第五章 总结与展望 | 第50-52页 |
5.1 结论 | 第50-51页 |
5.2 展望 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |