| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体材料光催化技术的基本情况 | 第12-20页 |
| 1.2.1 半导体材料光催化技术的基本原理 | 第13-15页 |
| 1.2.2 半导体材料性质对光催化活性的影响 | 第15-16页 |
| 1.2.3 半导体材料光催化性能增强与改性手段 | 第16-20页 |
| 1.3 Bi系光催化剂的研究现状 | 第20-23页 |
| 1.3.1 氧化铋催化剂 | 第21页 |
| 1.3.2 卤氧化铋催化剂 | 第21页 |
| 1.3.3 单质铋光催化剂 | 第21-23页 |
| 1.4 本论文研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 第二章 树枝状Bi/BiOBr薄膜的电化学合成和光催化性能 | 第24-40页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-29页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.3 FTO的预处理 | 第26页 |
| 2.2.4 薄膜材料制备 | 第26-27页 |
| 2.2.5 样品的表征 | 第27-28页 |
| 2.2.6 吸附性能测试 | 第28页 |
| 2.2.7 光催化降解实验 | 第28-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-39页 |
| 2.3.1 不同的Bi~(3+)制备的材料的XRD分析 | 第29页 |
| 2.3.2 不同的Bi~(3+)制备的材料的形貌分析 | 第29-31页 |
| 2.3.3 不同的Bi~(3+)离子浓度制备单质Bi的形貌分析 | 第31-32页 |
| 2.3.4 施加不同氧化电量制备的薄膜的XRD分析 | 第32-33页 |
| 2.3.5 施加不同电量的薄膜的形貌的分析 | 第33-34页 |
| 2.3.6 不同条件下制备的薄膜的紫外漫反射光谱分析 | 第34-35页 |
| 2.3.7 不同条件下制备的薄膜的光电流分析 | 第35页 |
| 2.3.8 不同条件下制备的薄膜的吸附性能分析 | 第35-36页 |
| 2.3.9 不同条件制备的薄膜的光催化性能分析 | 第36-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 单质Bi薄膜的电化学合成和光催化性能 | 第40-56页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验部分 | 第41-44页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第41页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第41-42页 |
| 3.2.3 FTO的预处理 | 第42页 |
| 3.2.4 单质Bi的制备 | 第42页 |
| 3.2.5 样品的表征 | 第42-43页 |
| 3.2.6 吸附性能测试 | 第43页 |
| 3.2.7 光催化降解实验 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-55页 |
| 3.3.1 不同条件下制备的铋单质的XRD分析 | 第44-45页 |
| 3.3.2 不同条件下制备的单质Bi薄膜的形貌分析 | 第45-47页 |
| 3.3.3 不同条件下制备的单质Bi薄膜的紫外漫反射分析 | 第47-48页 |
| 3.3.4 不同条件下制备的单质Bi薄膜的吸附性能分析 | 第48-49页 |
| 3.3.5 不同条件下制备的单质Bi薄膜的光催化效果分析 | 第49-50页 |
| 3.3.6 单质Bi薄膜的光催化机理分析 | 第50-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 两步法制备BiOCl/Bi OI薄膜及其光催化性能的研究 | 第56-69页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验部分 | 第57-60页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第57页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第57-58页 |
| 4.2.3 材料的制备 | 第58页 |
| 4.2.4 样品的表征 | 第58-59页 |
| 4.2.5 吸附性能测试 | 第59页 |
| 4.2.6 光催化降解实验 | 第59-60页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第60-67页 |
| 4.3.1 不同薄膜的XRD分析 | 第60-61页 |
| 4.3.2 不同薄膜的形貌分析 | 第61-62页 |
| 4.3.3 不同薄膜的漫反射分析 | 第62-63页 |
| 4.3.4 不同薄膜的吸附性能分析 | 第63-64页 |
| 4.3.5 不同薄膜的光催化性能分析 | 第64-65页 |
| 4.3.6 BiOCl/Bi OI复合材料的光催化机理分析 | 第65-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 5.1 总结 | 第69-70页 |
| 5.2 展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
