| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9-11页 |
| 1.2 透明电光陶瓷的研究进展及应用 | 第11-18页 |
| 1.2.1 透明电光陶瓷的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.2.2 电光薄膜制备方法研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.3 透明电光陶瓷的应用 | 第15-18页 |
| 1.3 本工作问题的提出和研究方案 | 第18-20页 |
| 第2章 陶瓷烧结与薄膜制备的理论基础 | 第20-34页 |
| 2.1 PMN-PT的结构和相图 | 第20-22页 |
| 2.2 PMN-PT电光陶瓷制备技术概述 | 第22-27页 |
| 2.2.1 原料的选取 | 第22页 |
| 2.2.2 粉末制备 | 第22-23页 |
| 2.2.3 胚体成型 | 第23-24页 |
| 2.2.4 排塑 | 第24页 |
| 2.2.5 烧结工艺 | 第24-26页 |
| 2.2.6 制备过程中影响陶瓷透明的因素 | 第26-27页 |
| 2.3 脉冲激光作用于固体靶材产生等离子体的理论模型 | 第27-31页 |
| 2.4 脉冲激光沉积薄膜形成过程与生长 | 第31-34页 |
| 第3章 陶瓷烧结实验研究 | 第34-41页 |
| 3.1 PMN-PT陶瓷烧结实验 | 第34-35页 |
| 3.2 实验结果分析 | 第35-40页 |
| 3.3 结论 | 第40-41页 |
| 第4章 薄膜制备及其表征 | 第41-58页 |
| 4.1 薄膜沉积的实验设备和装置 | 第41-43页 |
| 4.1.1 激光器 | 第41页 |
| 4.1.2 薄膜沉积系统 | 第41-43页 |
| 4.1.3 磁控溅射沉积系统 | 第43页 |
| 4.2 激光沉积PMN-PT实验 | 第43-46页 |
| 4.2.1 PLD沉积工艺参数的确定 | 第43-45页 |
| 4.2.2 PLD沉积薄膜步骤 | 第45-46页 |
| 4.3 脉冲激光沉积PMN-PT薄膜的XRD分析 | 第46-49页 |
| 4.4 脉冲激光沉积PMN-PT薄膜的光学性能分析 | 第49-51页 |
| 4.5 脉冲激光沉积PMN-PT薄膜的表面形貌分析 | 第51-54页 |
| 4.6 磁控溅射沉积PMN-PT薄膜研究 | 第54-57页 |
| 4.7 结论 | 第57-58页 |
| 第5章 总结和展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录: 攻读硕士期间发表的论文 | 第65页 |
