| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-16页 |
| 1.1.1 太赫兹波 | 第9-11页 |
| 1.1.2 石墨烯 | 第11-15页 |
| 1.1.3 选题意义 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第16-19页 |
| 1.2.1 氧化钒太赫兹探测器的发展现状及发展趋势 | 第16页 |
| 1.2.2 石墨烯太赫兹探测器的发展现状及发展趋势 | 第16-19页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 1.4 论文的组织结构 | 第20-21页 |
| 第2章 制备与表征设备的介绍 | 第21-27页 |
| 2.1 实验药品 | 第21页 |
| 2.2 实验设备 | 第21-23页 |
| 2.2.1 紫外线曝光机 | 第21页 |
| 2.2.2 等离子刻蚀机 | 第21-22页 |
| 2.2.3 磁控溅射镀膜机 | 第22页 |
| 2.2.4 电子束蒸发镀膜机 | 第22-23页 |
| 2.2.5 其他设备 | 第23页 |
| 2.3 表征设备 | 第23-24页 |
| 2.3.1 拉曼光谱仪 | 第23-24页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪 | 第24页 |
| 2.4 太赫兹测试系统 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-27页 |
| 第3章 太赫兹技术的应用研究 | 第27-39页 |
| 3.1 太赫兹技术在太阳能电池检测方面的应用研究 | 第27-33页 |
| 3.1.1 太阳能电池金属栅线的检测 | 第27-30页 |
| 3.1.2 非晶硅薄膜的检测 | 第30-31页 |
| 3.1.3 太阳能电池衬底材料的区分检测 | 第31-32页 |
| 3.1.4 非均匀掺杂硅片的检测 | 第32-33页 |
| 3.2 开展陶瓷材料的应用研究 | 第33-34页 |
| 3.3 开展金刚石薄膜材料的应用研究 | 第34-35页 |
| 3.4 开展半导体块材的应用研究 | 第35-36页 |
| 3.5 开展金属材料的应用研究 | 第36-37页 |
| 3.5.1 电线内部金属断裂处的检测 | 第36-37页 |
| 3.5.2 金属刀具的检测 | 第37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 单层石墨烯和氧化钒薄膜的制备与表征 | 第39-45页 |
| 4.1 单层石墨烯的转移 | 第39-40页 |
| 4.2 单层石墨烯的表征 | 第40-42页 |
| 4.2.1 光学显微镜 | 第41页 |
| 4.2.2 拉曼光谱 | 第41-42页 |
| 4.3 氧化钒薄膜的制备 | 第42-43页 |
| 4.4 氧化钒薄膜的表征 | 第43页 |
| 4.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第5章 氧化钒-石墨烯太赫兹探测器的制备与测试 | 第45-51页 |
| 5.1 石墨烯场效应晶体管的制备 | 第45-46页 |
| 5.2 石墨烯场效应晶体管的测试 | 第46-47页 |
| 5.3 氧化钒-石墨烯太赫兹探测器的制备 | 第47-48页 |
| 5.4 氧化钒-石墨烯太赫兹探测器的测试 | 第48-49页 |
| 5.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |