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界面电子结构对纳米多层膜磁性的影响研究

致谢第4-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-9页
1 引言第13-16页
2 背景综述第16-52页
    2.1 磁各向异性第16-22页
        2.1.1 磁晶各向异性第16-19页
        2.1.2 形状磁各向异性第19-20页
        2.1.3 感生磁各向异性第20页
        2.1.4 磁弹各向异性第20页
        2.1.5 交换磁各向异性第20-21页
        2.1.6 界面磁各向异性第21-22页
    2.2 铁磁/非磁金属多层膜的界面垂直磁各向异性第22-27页
        2.2.1 研究概况第22-26页
        2.2.2 铁磁/非磁金属界面垂直磁各向异性的来源第26-27页
    2.3 铁磁/氧化物多层膜的界面垂直磁各向异性第27-33页
        2.3.1 研究概况第27-30页
        2.3.2 铁磁/氧化物界面垂直磁各向异性的来源第30-33页
    2.4 影响界面垂直磁各向异性的因素第33-36页
        2.4.1 铁磁层厚度第33-34页
        2.4.2 非磁金属层、氧化物层以及缓冲层厚度第34页
        2.4.3 退火处理第34-35页
        2.4.4 缓冲层材料第35页
        2.4.5 铁磁层成分第35页
        2.4.6 外加电场第35-36页
        2.4.7 外加应力第36页
    2.5 有效磁各向异性能及其测定第36-39页
    2.6 铁磁/反铁磁体系的交换偏置效应第39-43页
        2.6.1 交换偏置的唯像理解第39-41页
        2.6.2 交换偏置的截止温度和锻炼效应第41-42页
        2.6.3 影响交换偏置的因素第42页
        2.6.4 存在交换偏置效应的体系第42-43页
    2.7 纳米磁性薄膜材料与自旋电子学第43-51页
        2.7.1 自旋电子学发展简介第43-46页
        2.7.2 磁电阻效应第46-51页
    2.8 本论文研究动机第51-52页
3 薄膜制备及表征方法第52-57页
    3.1 薄膜制备过程第52-53页
        3.1.1 基片清洗第52页
        3.1.2 薄膜的制备第52页
        3.1.3 退火系统第52-53页
    3.2 薄膜样品磁性的测量及结构表征方法第53-57页
        3.2.1 振动样品磁强计第53页
        3.2.2 X射线光电子能谱第53-55页
        3.2.3 高分辨透射电子显微镜第55-56页
        3.2.4 铁磁共振第56-57页
4 Ta/CoFeB/MgO多层膜界面电子结构调控的磁各向异性第57-71页
    4.1 引言第57-58页
    4.2 实验方法第58-60页
    4.3 实验结果和讨论第60-70页
    4.4 小结第70-71页
5 Pt/NiFe/IrMn/MgO/Pt多层膜界面电子结构调控增强的Blocking温度和交换偏置第71-84页
    5.1 引言第71-73页
    5.2 实验方法第73-74页
    5.3 实验结果和讨论第74-83页
    5.4 小结第83-84页
6 界面掺杂Fe原子调控Co/Pt多层膜的垂直磁各向异性第84-91页
    6.1 引言第84-85页
    6.2 实验方法第85页
    6.3 实验结果和讨论第85-90页
    6.4 小结第90-91页
7 Co/Ni多层膜中Pt插层增强的垂直磁各向异性及其退火稳定性第91-97页
    7.1 引言第91页
    7.2 实验方法第91-92页
    7.3 实验结果和讨论第92-96页
    7.4 小结第96-97页
8 界面氧迁移及其对Pt/Co/MgO(SiO_2)/Pt多层膜磁各向异性的影响第97-105页
    8.1 引言第97页
    8.2 实验方法第97-98页
    8.3 实验结果和讨论第98-104页
    8.4 小结第104-105页
9 结论和展望第105-109页
    9.1 结论第105-106页
    9.2 展望第106-109页
参考文献第109-130页
作者简历及在学研究成果第130-135页
学位论文数据集第135页

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