SESRI装置的注入系统设计
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 空间辐照背景分析 | 第11-12页 |
| 1.2 空间辐照装置的建设意义 | 第12-14页 |
| 1.2.1 空间辐照对材料器件辐照研究的重要意义 | 第12-13页 |
| 1.2.2 对生命体辐照研究的重要意义 | 第13-14页 |
| 1.3 国内外辐照加速器现状 | 第14-16页 |
| 1.4 SESRI进展以及组成结构 | 第16-17页 |
| 1.5 论文的主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 重离子同步加速器的理论基础 | 第19-30页 |
| 2.1 运动方程 | 第19-22页 |
| 2.1.1 Hill方程 | 第19-20页 |
| 2.1.2 Betatron震荡 | 第20-21页 |
| 2.1.3 Hill方程的闭合解 | 第21-22页 |
| 2.2 工作点 | 第22-23页 |
| 2.3 相空间 | 第23页 |
| 2.4 刘维尔定理 | 第23-24页 |
| 2.5 发射度，接受度 | 第24-25页 |
| 2.6 归一化发射度和绝热阻尼 | 第25-26页 |
| 2.7 色散 | 第26-27页 |
| 2.8 束流包络 | 第27页 |
| 2.9 闭轨畸变 | 第27-29页 |
| 2.10 共振 | 第29-30页 |
| 第三章 SESRI装置的Lattice结构设计 | 第30-34页 |
| 3.1 SESRI注入系统的设计概念 | 第30页 |
| 3.2 同步环的设计要求 | 第30页 |
| 3.3 全环的lattice结构布局 | 第30-33页 |
| 3.4 闭轨校正 | 第33-34页 |
| 第四章 同步加速器注入原理 | 第34-50页 |
| 4.1 常见的注入方式 | 第34-40页 |
| 4.1.1 单圈注入 | 第34-36页 |
| 4.1.2 多圈注入 | 第36-39页 |
| 4.1.3 多次多圈注入 | 第39-40页 |
| 4.1.4 剥离注入 | 第40页 |
| 4.2 剥离注入与多圈注入的注入光学参数匹配 | 第40-41页 |
| 4.3 SESRI装置的注入系统设计 | 第41-43页 |
| 4.4 SESRI装置的注入元件介绍 | 第43-46页 |
| 4.4.1 凸轨磁铁 | 第43-44页 |
| 4.4.2 切割磁铁 | 第44-45页 |
| 4.4.3 静电偏转板 | 第45页 |
| 4.4.4 四极磁铁 | 第45-46页 |
| 4.5 SESRI同步加速器的多圈注入 | 第46-50页 |
| 第五章 多圈注入过程粒子跟踪模拟 | 第50-62页 |
| 5.1 注入软件ACCSIM介绍 | 第50-51页 |
| 5.2 特定函数的产生 | 第51-53页 |
| 5.3 注入过程参数选择 | 第53-54页 |
| 5.4 C~(6+)束注入过程粒子跟踪模拟 | 第54页 |
| 5.5 注入参数优化 | 第54-57页 |
| 5.5.1 BUMP下降曲线优化 | 第55页 |
| 5.5.2 注入束位置优化 | 第55-56页 |
| 5.5.3 TWISS参数匹配优化 | 第56页 |
| 5.5.4 注入效率与注入圈数优化 | 第56-57页 |
| 5.6 C~(6+)粒子注入系统结果分析 | 第57-59页 |
| 5.6.1 粒子相空间分布 | 第57-58页 |
| 5.6.2 发射度变化 | 第58页 |
| 5.6.3 离子数增益 | 第58-59页 |
| 5.7 Bi~(32+)束注入过程粒子跟踪模拟 | 第59-61页 |
| 5.8 总结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-63页 |
| 6.1 总结 | 第62页 |
| 6.2 下一步计划 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第66页 |
