| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 纳米科学技术简介 | 第10-11页 |
| 1.2 分子自组装概述 | 第11-21页 |
| 1.2.1 分子自组装简介 | 第11页 |
| 1.2.2 分子自组装过程中的驱动力 | 第11-17页 |
| 1.2.3 影响分子自组装的外部因素 | 第17-21页 |
| 1.3 扫描隧道显微镜 | 第21-22页 |
| 1.3.1 扫描隧道显微镜简介 | 第21页 |
| 1.3.2 扫描隧道显微镜基本原理 | 第21-22页 |
| 1.4 论文的选题依据和意义 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第二章 浓度调控自组装单分子层在石墨表面的可逆相转变 | 第29-44页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-33页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第30-32页 |
| 2.2.2 溶液配制 | 第32页 |
| 2.2.3 大气环境下STM操作 | 第32-33页 |
| 2.2.4 原位稀释和浓缩过程 | 第33页 |
| 2.2.5 退火处理过程 | 第33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 2.3.1 浓度对苯三氧十六烷自组装行为的影响 | 第33-35页 |
| 2.3.2 相转变的原理 | 第35-36页 |
| 2.3.3 原位可逆相转变 | 第36-38页 |
| 2.3.4 退火处理实现高效相转变 | 第38-39页 |
| 2.3.5 自组装相图 | 第39-40页 |
| 2.4 结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第三章 高真空蒸镀制备大面积单一结构自组装单层膜 | 第44-50页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第44-45页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第45页 |
| 3.2.3 大气环境下STM操作 | 第45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-48页 |
| 3.4 结论 | 第48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第四章 超高真空环境下基底对自组装结构的影响 | 第50-55页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 实验部分 | 第50-51页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第50-51页 |
| 4.2.2 超高真空低温强磁场STM操作 | 第51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-53页 |
| 4.3.1 不同基底上的组装结构 | 第51-52页 |
| 4.3.2 基底诱导作用 | 第52-53页 |
| 4.4 结论 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |