表面亲疏水特性对形貌测量的影响
| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号说明 | 第15-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-28页 |
| 1.1 课题来源 | 第18页 |
| 1.2 引言 | 第18-19页 |
| 1.3 AFM的发展与工作原理 | 第19-22页 |
| 1.3.1 原子力显微镜的发展史 | 第19-20页 |
| 1.3.2 AFM轻敲模式的工作原理 | 第20-21页 |
| 1.3.3 AFM微悬臂梁的基本概念 | 第21-22页 |
| 1.4 AFM轻敲模式模型简化基础 | 第22-24页 |
| 1.5 样品亲疏水特性的基本概念 | 第24-25页 |
| 1.6 国内外研究现状 | 第25-26页 |
| 1.7 本论文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 轻敲模式下的微梁振动分析 | 第28-50页 |
| 2.1 单摆系统模拟AFM的轻敲模式 | 第28-32页 |
| 2.1.1 单摆系统模型 | 第28-29页 |
| 2.1.2 单摆系统模型运动方程 | 第29-30页 |
| 2.1.3 单摆系统模拟结果与验证 | 第30-32页 |
| 2.2 质量弹簧系统模型 | 第32-37页 |
| 2.2.1 质量弹簧系统模型的建立 | 第32-33页 |
| 2.2.2 无阻尼质量弹簧系统的运动方程 | 第33-35页 |
| 2.2.3 无阻尼质量弹簧系统计算分析 | 第35-37页 |
| 2.3 质量弹簧阻尼系统模型 | 第37-43页 |
| 2.3.1 质量弹簧阻尼系统的运动方程 | 第37-39页 |
| 2.3.2 质量弹簧阻尼系统的计算分析 | 第39-41页 |
| 2.3.3 不同k_2值对质量球运动的影响 | 第41页 |
| 2.3.4 阻尼对质量弹簧系统运动的影响 | 第41-43页 |
| 2.4 负弹簧模型 | 第43-47页 |
| 2.4.1 负弹簧模型建立基础 | 第43-44页 |
| 2.4.2 负弹簧模型建立 | 第44-45页 |
| 2.4.3 负弹簧模型的运动方程 | 第45-46页 |
| 2.4.4 负弹簧模型运动分析 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-50页 |
| 第三章 亲水特性对形貌测量的影响 | 第50-66页 |
| 3.1 亲水处理理论 | 第50-51页 |
| 3.2 亲水处理——氧化溶液处理 | 第51-55页 |
| 3.2.1 氧化溶液选择 | 第51-52页 |
| 3.2.2 氧化溶液处理设备与处理步骤 | 第52-54页 |
| 3.2.3 氧化溶液处理结果 | 第54-55页 |
| 3.3 亲水处理——等离子清洗 | 第55-58页 |
| 3.3.1 等离子清洗技术 | 第55-56页 |
| 3.3.2 等离子清洗原理 | 第56-57页 |
| 3.3.3 等离子清洗设备及步骤 | 第57-58页 |
| 3.3.4 等离子处理结果 | 第58页 |
| 3.4 亲水硅片在不同湿度下的形貌测量 | 第58-65页 |
| 3.4.1 实验设备 | 第58-61页 |
| 3.4.2 实验方法 | 第61-62页 |
| 3.4.3 实验结果与分析 | 第62-65页 |
| 3.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第四章 疏水特性对形貌测量的影响 | 第66-80页 |
| 4.1 疏水特性概述 | 第66页 |
| 4.2 疏水处理——HF溶液处理 | 第66-68页 |
| 4.2.1 HF溶液处理原理及步骤 | 第66-67页 |
| 4.2.2 HF溶液处理结果分析 | 第67-68页 |
| 4.3 疏水处理——氟硅烷处理 | 第68-72页 |
| 4.3.1 氟硅烷处理原理 | 第68-69页 |
| 4.3.2 氟硅烷处理设备及步骤 | 第69-71页 |
| 4.3.3 氟硅烷处理结果分析 | 第71-72页 |
| 4.4 亲疏水梯度硅片 | 第72-75页 |
| 4.4.1 亲疏水梯度的硅片制作 | 第72-73页 |
| 4.4.2 亲疏水梯度的硅片接触角测量 | 第73-75页 |
| 4.5 疏水硅片在不同湿度下的形貌测量 | 第75-78页 |
| 4.5.1 实验设备与实验方法 | 第75页 |
| 4.5.2 实验结果与分析 | 第75-78页 |
| 4.6 本章小结 | 第78-80页 |
| 第五章 表面迁移 | 第80-88页 |
| 5.1 液桥形成的一般机理 | 第80-81页 |
| 5.2 吸附 | 第81-82页 |
| 5.3 表面迁移 | 第82-86页 |
| 5.3.1 表面迁移的两种方式 | 第82-84页 |
| 5.3.2 表面迁移的扩散速率 | 第84-85页 |
| 5.3.3 表面迁移与Knudsen扩散速率比较 | 第85-86页 |
| 5.4 本章小结 | 第86-88页 |
| 第六章 结论与展望 | 第88-90页 |
| 6.1 结论 | 第88页 |
| 6.2 展望 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-96页 |
| 致谢 | 第96-98页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第98-100页 |
| 作者与导师简介 | 第100-101页 |
| 附件 | 第101-102页 |
