| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 ZnO 材料的概况 | 第10-27页 |
| §1.1 ZnO 的晶体结构和性质 | 第10-14页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的光学性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的电学性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的磁学性质 | 第14页 |
| §1.2 ZnO 的应用 | 第14-17页 |
| §1.3 研究进展 | 第17-19页 |
| ·优质ZnO 薄膜的外延生长: | 第17-18页 |
| ·p 型ZnO 薄膜的研究: | 第18页 |
| ·掺杂对ZnO 薄膜的光学、电学、磁学等特性进行改性: | 第18-19页 |
| §1.4 本论文研究工作简介 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-27页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备及表征 | 第27-36页 |
| §2.1 常用的制备方法 | 第27-31页 |
| ·溅射法 | 第27-29页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第29页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第29页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第29-30页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-Gel) | 第30-31页 |
| §2.2 常用的表征方法 | 第31-34页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
| ·紫外分光光度计 | 第33页 |
| ·荧光分光光度计 | 第33-34页 |
| §2.3 实验室ZnO:Cu 薄膜的制备与表征 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-36页 |
| 第三章 氧分压对ZnO:Cu 薄膜的结构及光学特性的影响 | 第36-44页 |
| §3.1 氧分压对ZnO:Cu 薄膜结构的影响 | 第36-39页 |
| §3.2 氧分压对ZnO:Cu 薄膜光学特性的影响 | 第39-41页 |
| §3.3 本章 小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 衬底和氧分压对ZnO:Cu 薄膜结构及光学特性的影响 | 第44-51页 |
| §4.1 衬底和氧分压对ZnO:Cu 薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| §4.2 衬底和氧分压对ZnO:Cu 薄膜光学特性的影响 | 第46-48页 |
| §4.3 本章 小结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
| §5.1 总结 | 第51页 |
| §5.2 展望 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54页 |
