摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第10页 |
1.2 稻壳硅 | 第10-14页 |
1.2.1 稻壳简介 | 第10-12页 |
1.2.2 稻壳灰的用途 | 第12页 |
1.2.3 有机硅的制备 | 第12-14页 |
1.3 POSS材料 | 第14-19页 |
1.3.1 POSS材料简介 | 第14-15页 |
1.3.2 POSS结构的发展与研究现状 | 第15-19页 |
1.4 热防护材料 | 第19-21页 |
1.4.1 热防护材料简介 | 第19-20页 |
1.4.2 隔热瓦表面热防护涂层 | 第20-21页 |
1.5 低温釉料 | 第21-23页 |
1.5.1 釉的组成原料 | 第22页 |
1.5.2 低温釉 | 第22-23页 |
1.6 发射率 | 第23-24页 |
1.7 本文的研究内容 | 第24-26页 |
第2章 实验材料与方法 | 第26-30页 |
2.1 实验药品 | 第26页 |
2.2 实验仪器与设备 | 第26-27页 |
2.3 实验分析方法与表征 | 第27-30页 |
2.3.1 Materials Studio软件 | 第27页 |
2.3.2 FT-IR红外光谱分析 | 第27页 |
2.3.3 SEM-EDS扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
2.3.4 质谱分析 | 第28页 |
2.3.5 热固量与残炭率分析 | 第28页 |
2.3.6 X射线衍射分析 | 第28页 |
2.3.7 DSC-TG分析 | 第28-29页 |
2.3.8 隔热瓦表面抗热震性能测试 | 第29页 |
2.3.9 膜层发射率 | 第29-30页 |
第3章 以稻壳为硅源制备 2-甲基-2,4-戊硅氧烷 | 第30-41页 |
3.1 稻壳硅的制备 | 第30-33页 |
3.2 2-甲基-2,4 戊硅氧烷的合成 | 第33-37页 |
3.3 溶解度计算 | 第37-39页 |
3.4 2-甲基-2,4 戊硅氧烷热重测试 | 第39页 |
3.5 本章小结 | 第39-41页 |
第4章 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的制备 | 第41-51页 |
4.1 POSS溶胶的制备 | 第41-42页 |
4.2 不同膜层对隔热瓦表面形貌的影响 | 第42-44页 |
4.3 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的制备 | 第44-45页 |
4.4 硅氧烷/POSS复合材料耐热性测试 | 第45-49页 |
4.4.1 硅氧烷/POSS复合材料残炭率及固含量测试 | 第45-47页 |
4.4.2 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合材料热重分析 | 第47-49页 |
4.5 本章小结 | 第49-51页 |
第5章 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的改性 | 第51-72页 |
5.1 低温釉料改性复合膜层 | 第51-56页 |
5.1.1 低温釉涂层烧结测试 | 第51-52页 |
5.1.2 不同配比对复合膜层的影响 | 第52-53页 |
5.1.3 不同过渡层对膜层的影响 | 第53-56页 |
5.2 低温釉料改性膜层测试 | 第56-62页 |
5.2.1 XRD表征 | 第56-57页 |
5.2.2 热重测试及机理分析 | 第57-59页 |
5.2.3 抗热震性能测试 | 第59-62页 |
5.3 高发射涂层改性复合膜层 | 第62-65页 |
5.4 高发射涂料改性复合膜层测试 | 第65-71页 |
5.4.1 改性复合膜层抗热震性能测试 | 第65-67页 |
5.4.2 XRD表征 | 第67-68页 |
5.4.3 复合膜层的高发射性能测试 | 第68-71页 |
5.5 本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
致谢 | 第79页 |