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基于稻壳的有机硅制备及其膜材料热性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-26页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第10页
    1.2 稻壳硅第10-14页
        1.2.1 稻壳简介第10-12页
        1.2.2 稻壳灰的用途第12页
        1.2.3 有机硅的制备第12-14页
    1.3 POSS材料第14-19页
        1.3.1 POSS材料简介第14-15页
        1.3.2 POSS结构的发展与研究现状第15-19页
    1.4 热防护材料第19-21页
        1.4.1 热防护材料简介第19-20页
        1.4.2 隔热瓦表面热防护涂层第20-21页
    1.5 低温釉料第21-23页
        1.5.1 釉的组成原料第22页
        1.5.2 低温釉第22-23页
    1.6 发射率第23-24页
    1.7 本文的研究内容第24-26页
第2章 实验材料与方法第26-30页
    2.1 实验药品第26页
    2.2 实验仪器与设备第26-27页
    2.3 实验分析方法与表征第27-30页
        2.3.1 Materials Studio软件第27页
        2.3.2 FT-IR红外光谱分析第27页
        2.3.3 SEM-EDS扫描电子显微镜第27-28页
        2.3.4 质谱分析第28页
        2.3.5 热固量与残炭率分析第28页
        2.3.6 X射线衍射分析第28页
        2.3.7 DSC-TG分析第28-29页
        2.3.8 隔热瓦表面抗热震性能测试第29页
        2.3.9 膜层发射率第29-30页
第3章 以稻壳为硅源制备 2-甲基-2,4-戊硅氧烷第30-41页
    3.1 稻壳硅的制备第30-33页
    3.2 2-甲基-2,4 戊硅氧烷的合成第33-37页
    3.3 溶解度计算第37-39页
    3.4 2-甲基-2,4 戊硅氧烷热重测试第39页
    3.5 本章小结第39-41页
第4章 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的制备第41-51页
    4.1 POSS溶胶的制备第41-42页
    4.2 不同膜层对隔热瓦表面形貌的影响第42-44页
    4.3 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的制备第44-45页
    4.4 硅氧烷/POSS复合材料耐热性测试第45-49页
        4.4.1 硅氧烷/POSS复合材料残炭率及固含量测试第45-47页
        4.4.2 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合材料热重分析第47-49页
    4.5 本章小结第49-51页
第5章 2-甲基-2,4-戊硅氧烷/POSS复合膜层的改性第51-72页
    5.1 低温釉料改性复合膜层第51-56页
        5.1.1 低温釉涂层烧结测试第51-52页
        5.1.2 不同配比对复合膜层的影响第52-53页
        5.1.3 不同过渡层对膜层的影响第53-56页
    5.2 低温釉料改性膜层测试第56-62页
        5.2.1 XRD表征第56-57页
        5.2.2 热重测试及机理分析第57-59页
        5.2.3 抗热震性能测试第59-62页
    5.3 高发射涂层改性复合膜层第62-65页
    5.4 高发射涂料改性复合膜层测试第65-71页
        5.4.1 改性复合膜层抗热震性能测试第65-67页
        5.4.2 XRD表征第67-68页
        5.4.3 复合膜层的高发射性能测试第68-71页
    5.5 本章小结第71-72页
结论第72-73页
参考文献第73-79页
致谢第79页

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