| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 石墨烯简介 | 第13-19页 |
| 1.2.1 石墨烯的制备 | 第14-15页 |
| 1.2.2 石墨烯的表征 | 第15-16页 |
| 1.2.3 石墨烯的性质 | 第16-17页 |
| 1.2.4 石墨烯的光电应用 | 第17-19页 |
| 1.3 太赫兹技术简介 | 第19-20页 |
| 1.3.1 太赫兹波的特性 | 第19页 |
| 1.3.2 太赫兹时域光谱技术 | 第19-20页 |
| 1.4 石墨烯光调控机理 | 第20-22页 |
| 1.4.1 石墨烯在太赫兹波段的光调控机理 | 第21页 |
| 1.4.2 石墨烯在近红外波段的光调控机理 | 第21-22页 |
| 1.5 石墨烯基光调制器的研究背景 | 第22-29页 |
| 1.5.1 石墨烯太赫兹波调制器 | 第22-26页 |
| 1.5.2 石墨烯近红外波段光调制器 | 第26-29页 |
| 1.6 本论文选题的目的和意义 | 第29-32页 |
| 第二章 APCVD法可控制备大面积石墨烯薄膜的研究 | 第32-46页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 实验部分 | 第33-38页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第33页 |
| 2.2.2 石墨烯的制备 | 第33-35页 |
| 2.2.3 石墨烯的转移 | 第35-36页 |
| 2.2.4 石墨烯的表征 | 第36-38页 |
| 2.3 石墨烯的生长参数优化 | 第38-44页 |
| 2.3.1 升温过程气体环境的优化 | 第38-39页 |
| 2.3.2 生长时间的优化 | 第39-40页 |
| 2.3.3 生长温度的优化 | 第40页 |
| 2.3.4 乙炔浓度的优化 | 第40-41页 |
| 2.3.5 铜箔的自限制生长 | 第41-42页 |
| 2.3.6 乙炔和甲烷分别作为碳源的比较 | 第42-44页 |
| 2.4 APCVD石墨烯薄膜的应用 | 第44-46页 |
| 2.4.1 作为可饱和吸收体在激光器中的应用 | 第44-45页 |
| 2.4.2 在太赫兹波段的应用 | 第45-46页 |
| 第三章 氢气在APCVD石墨烯生长中的动力学研究 | 第46-56页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验方法 | 第47-48页 |
| 3.2.1 石墨烯的制备方法 | 第47-48页 |
| 3.2.2 石墨烯的表征方法 | 第48页 |
| 3.3 生长过程氢气浓度对石墨烯质量的影响 | 第48-55页 |
| 3.3.1 高质量双层石墨烯薄膜 | 第48-50页 |
| 3.3.2 氢气在石墨烯生长中的刻蚀与催化作用 | 第50-53页 |
| 3.3.3 氢气在石墨烯生长中的动力学过程分析 | 第53-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 APCVD石墨烯薄膜太赫兹电导的调控研究 | 第56-70页 |
| 4.1 引言 | 第56-58页 |
| 4.2 实验方法 | 第58-59页 |
| 4.2.1 石墨烯的制备方法 | 第58页 |
| 4.2.2 石墨烯的表征方法 | 第58-59页 |
| 4.3 APCVD石墨烯的表征结果与讨论 | 第59-64页 |
| 4.3.1 不同温度制备的石墨烯的表征结果与讨论 | 第59-63页 |
| 4.3.2 硝酸处理前后石墨烯的表征结果与讨论 | 第63-64页 |
| 4.4 APCVD石墨烯太赫兹电导的调控 | 第64-69页 |
| 4.4.1 生长温度对石墨烯太赫兹电导的调控 | 第64-66页 |
| 4.4.2 生长过程氢气浓度对石墨烯太赫兹电导的调控 | 第66-68页 |
| 4.4.3 硝酸处理石墨烯对其太赫兹电导的调控 | 第68-69页 |
| 4.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 rGO-Gel柔性薄膜太赫兹电导调控研究 | 第70-86页 |
| 5.1 引言 | 第70-72页 |
| 5.2 实验方法 | 第72-73页 |
| 5.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第72页 |
| 5.2.2 氧化石墨烯—明胶复合物薄膜的制备 | 第72-73页 |
| 5.2.3 材料的表征方法 | 第73页 |
| 5.2.4 太赫兹光电导测试系统 | 第73页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第73-85页 |
| 5.3.1 rGO与rGO-Gel的表征 | 第73-76页 |
| 5.3.2 rGO-Gel太赫兹电导调控特性 | 第76-79页 |
| 5.3.3 rGO-Gel太赫兹持续光电导效应 | 第79-85页 |
| 5.4 本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 石墨烯电光调制器的制备研究 | 第86-104页 |
| 6.1 引言 | 第86-87页 |
| 6.2 电子束曝光系统简介 | 第87-88页 |
| 6.3 垂直入射型石墨烯电光调制器 | 第88-96页 |
| 6.3.1 石墨烯电光调制器的制作 | 第89-93页 |
| 6.3.2 调制器的性能表征 | 第93-96页 |
| 6.4 波导耦合型石墨烯电光调制器 | 第96-102页 |
| 6.4.1 器件主要参数设计与模拟 | 第96-98页 |
| 6.4.2 波导型石墨烯电光调制器的制作 | 第98-102页 |
| 6.5 本章小结 | 第102-104页 |
| 工作总结与展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-118页 |
| 致谢 | 第118-120页 |
| 攻读博士学位期间取得的科研成果 | 第120-124页 |
| 作者简介 | 第124页 |