| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-19页 |
| 1.1 前言 | 第16-17页 |
| 1.2 PUA特性 | 第17页 |
| 1.3 微纳米加工技术的分类 | 第17-19页 |
| 1.3.1 平面工艺 | 第17-18页 |
| 1.3.2 探针工艺 | 第18页 |
| 1.3.3 模型工艺 | 第18-19页 |
| 第二章 微纳米阵列获得技术 | 第19-28页 |
| 2.1 光刻技术 | 第19-21页 |
| 2.2 微纳米转印技术 | 第21-26页 |
| 2.2.1 正性转印 | 第21-22页 |
| 2.2.2 负性转印 | 第22-23页 |
| 2.2.3 转印印刷 | 第23-24页 |
| 2.2.4 墨水转印 | 第24-26页 |
| 2.3 微纳米压印技术 | 第26页 |
| 2.4 直接赋形技术 | 第26页 |
| 2.5 本文研究内容 | 第26-28页 |
| 第三章 基于PUA/PMMA双层胶转印技术的微纳结构制作 | 第28-44页 |
| 3.1 双层胶结构的优点 | 第28页 |
| 3.2 实验方案和试验步骤 | 第28-43页 |
| 3.2.1 实验材料和实验设备 | 第29-31页 |
| 3.2.2 石英模板的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.3 PDMS模板的浇铸成型 | 第32-33页 |
| 3.2.4 基于PUA/PMMA双层胶转印制作微纳米结构 | 第33-34页 |
| 3.2.5 基于PDMS微孔模板的粘附能分析 | 第34-36页 |
| 3.2.6 PUA与PMMA的抗氧等离子体刻蚀性研究 | 第36-38页 |
| 3.2.7 RIE刻蚀时间对内切结构形成的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.8 金属辅助湿法刻蚀技术 | 第40-42页 |
| 3.2.9 基于紫外固化胶/PMMA双层胶转印技术的微纳结构制作的结果 | 第42-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 通过墨水转印技术制作PUA点阵模板 | 第44-61页 |
| 4.1 实验方案及实验步骤 | 第44-48页 |
| 4.1.1 微纳米结构孔阵硅模板制作 | 第44-46页 |
| 4.1.2 制备PUA点阵微结构模板 | 第46-48页 |
| 4.2 实验结果及分析 | 第48页 |
| 4.2.1 复制模板结果 | 第48页 |
| 4.3 PUA模板制备结果分析 | 第48-59页 |
| 4.3.1. PUA墨水填充情况 | 第49-54页 |
| 4.3.2. 转印过程中界面间粘附能 | 第54-57页 |
| 4.3.3. 转印过程中的动力学作用 | 第57-59页 |
| 4.4 实验方案改进办法 | 第59-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 全文总结 | 第61-62页 |
| 5.2 实验的不足和改进 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第67页 |
