| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 前言 | 第9-22页 |
| 1.1 TaN材料的主要性质 | 第9-14页 |
| 1.1.1 Ta-N体系的结构 | 第9-10页 |
| 1.1.2 TaN的电学性质 | 第10-13页 |
| 1.1.3 高热稳定性 | 第13-14页 |
| 1.1.4 高硬度 | 第14页 |
| 1.2 TaN薄膜的主要应用 | 第14-17页 |
| 1.2.1 薄膜电阻器 | 第14-15页 |
| 1.2.2 扩散势垒层 | 第15-16页 |
| 1.2.3 超导纳米单光子探测器 | 第16-17页 |
| 1.3 δ-TaN的制备方法 | 第17-18页 |
| 1.3.1 磁控溅射法 | 第17页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积法 | 第17-18页 |
| 1.3.3 离子束辅助沉积法 | 第18页 |
| 1.4 电输运机制 | 第18-20页 |
| 1.5 选题及本论文的主要工作 | 第20-22页 |
| 第二章 样品制备与表征 | 第22-32页 |
| 2.1 TaN薄膜的制备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 磁控溅射基本原理 | 第22-24页 |
| 2.1.2 样品制备过程 | 第24页 |
| 2.2 样品的测量 | 第24-32页 |
| 2.2.1 样品的膜厚测量 | 第24-25页 |
| 2.2.2 样品的结构表征 | 第25页 |
| 2.2.3 样品的形貌表征 | 第25-29页 |
| 2.2.4 样品的电学性质测量 | 第29-32页 |
| 第三章 基底温度对δ-TaNx薄膜的结构和电输运性质的影响 | 第32-44页 |
| 3.1 薄膜的膜厚、沉积速率 | 第32-33页 |
| 3.2 δ-TaNx薄膜的结构、形貌分析 | 第33-37页 |
| 3.2.1 δ-TaN薄膜的结构分析 | 第33-36页 |
| 3.2.2 δ-TaNx薄膜的SEM及AFM结果分析 | 第36-37页 |
| 3.3 δ-TaNx薄膜的电输运性质研究 | 第37-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 氮分压对δ-TaNx薄膜的结构和电输运性质影响 | 第44-58页 |
| 4.1 薄膜的膜厚、沉积速率 | 第45-46页 |
| 4.2 δ-TaNx薄膜的结构、形貌分析 | 第46-51页 |
| 4.2.1 δ-TaNx薄膜的结构分析 | 第46-50页 |
| 4.2.2 δ-TaNx薄膜的SEM及AFM结果分析 | 第50-51页 |
| 4.3 δ-TaNx薄膜的电输运性质研究 | 第51-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
