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化学气相输运合成层状材料及其拉曼光谱学研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 拉曼散射的基本理论第11-27页
    1.1 引言第11页
    1.2 拉曼散射的经典理论第11-13页
    1.3 拉曼散射的半经典理论第13-16页
    1.4 拉曼散射的量子理论第16-21页
    1.5 拉曼散射的费曼图表示第21-23页
    1.6 本论文的研究意义和组织结构第23-25页
    参考文献第25-27页
第2章 层状(NH_4)_2V_3O_8和NbSe_3的偏振拉曼光谱第27-43页
    2.1 引言第27页
    2.2 偏振拉曼散射的基本理论第27-31页
    2.3 层状(NH_4)_2V_3O_8的偏振拉曼散射第31-36页
        2.3.1 (NH_4)_2V_3O_8的样品合成与结构表征第31-32页
        2.3.2 (NH_4)_2V_3O_8偏振拉曼散射的实验条件第32页
        2.3.3 实验结果和讨论第32-36页
    2.4 NbSe_3的偏振拉曼散射第36-41页
        2.4.1 NbSe_3的样品合成与结构表征第36-37页
        2.4.2 偏振拉曼散射的实验条件第37页
        2.4.3 实验结果与讨论第37-41页
    2.5 总结与展望第41-42页
    参考文献第42-43页
第3章 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的激子方诺效应第43-59页
    3.1 引言第43页
    3.2 电子和声子拉曼散射之间的相互干涉第43-50页
        3.2.1 微分散射截面的计算第44-47页
        3.2.2 关联函数的计算第47-50页
    3.3 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的激子方诺效应第50-55页
        3.3.1 Ta_2NiS_5单晶样品的合成第50页
        3.3.2 Ta_2NiS_5单晶样品的结构表征第50-51页
        3.3.3 方诺峰形的拟合第51-55页
    3.4 总结与展望第55-56页
    参考文献第56-59页
第4章 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的温度依赖行为第59-81页
    4.1 引言第59页
    4.2 声子传播子第59-71页
    4.3 光学声子衰减为两个或者三个声学声子的过程及其温度依赖性第71-73页
    4.4 常见物质声子线宽和自能虚部的波矢依耐性第73-77页
    4.5 Ta_2NiS_5变温拉曼实验结果第77-79页
    4.6 总结与展望第79页
    参考文献第79-81页
第5章 层状MoS_2拉曼光谱的共振散射行为第81-103页
    5.1 引言第81页
    5.2 基本的定义和基本的性质第81-86页
    5.3 共振拉曼散射的基本表达式第86-91页
    5.4 拉曼散射截面的计算第91-95页
    5.5 理论结果的分析与讨论第95-98页
    5.6 MoS_2的共振拉曼第98-100页
    5.7 总结与展望第100-101页
    参考文献第101-103页
附录列表第103-127页
    附录一第103-107页
        A-1 极化率公式的详细推导第103-104页
        A-2 r≠i,f的限制第104-106页
        A-3 iΓr的相对符号第106-107页
    附录二第107-123页
        B-1 方诺共振的经典类比第107-113页
            B-1-1 外界驱动力作用下的简谐振子共振第107-109页
            B-1-2 两耦合振子模型第109-113页
        B-2 连续态中的局域态第113-118页
        B-3 构型相互作用对强度和相移的影响第118-123页
    附录三第123-127页
        C-1 325nm激发光得到的MoS_2拉曼谱第123-127页
致谢第127-129页
在读期间发表的学术论文及其他研究成果第129-130页

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