摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第1章 拉曼散射的基本理论 | 第11-27页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 拉曼散射的经典理论 | 第11-13页 |
1.3 拉曼散射的半经典理论 | 第13-16页 |
1.4 拉曼散射的量子理论 | 第16-21页 |
1.5 拉曼散射的费曼图表示 | 第21-23页 |
1.6 本论文的研究意义和组织结构 | 第23-25页 |
参考文献 | 第25-27页 |
第2章 层状(NH_4)_2V_3O_8和NbSe_3的偏振拉曼光谱 | 第27-43页 |
2.1 引言 | 第27页 |
2.2 偏振拉曼散射的基本理论 | 第27-31页 |
2.3 层状(NH_4)_2V_3O_8的偏振拉曼散射 | 第31-36页 |
2.3.1 (NH_4)_2V_3O_8的样品合成与结构表征 | 第31-32页 |
2.3.2 (NH_4)_2V_3O_8偏振拉曼散射的实验条件 | 第32页 |
2.3.3 实验结果和讨论 | 第32-36页 |
2.4 NbSe_3的偏振拉曼散射 | 第36-41页 |
2.4.1 NbSe_3的样品合成与结构表征 | 第36-37页 |
2.4.2 偏振拉曼散射的实验条件 | 第37页 |
2.4.3 实验结果与讨论 | 第37-41页 |
2.5 总结与展望 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-43页 |
第3章 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的激子方诺效应 | 第43-59页 |
3.1 引言 | 第43页 |
3.2 电子和声子拉曼散射之间的相互干涉 | 第43-50页 |
3.2.1 微分散射截面的计算 | 第44-47页 |
3.2.2 关联函数的计算 | 第47-50页 |
3.3 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的激子方诺效应 | 第50-55页 |
3.3.1 Ta_2NiS_5单晶样品的合成 | 第50页 |
3.3.2 Ta_2NiS_5单晶样品的结构表征 | 第50-51页 |
3.3.3 方诺峰形的拟合 | 第51-55页 |
3.4 总结与展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
第4章 层状Ta_2NiS_5拉曼光谱的温度依赖行为 | 第59-81页 |
4.1 引言 | 第59页 |
4.2 声子传播子 | 第59-71页 |
4.3 光学声子衰减为两个或者三个声学声子的过程及其温度依赖性 | 第71-73页 |
4.4 常见物质声子线宽和自能虚部的波矢依耐性 | 第73-77页 |
4.5 Ta_2NiS_5变温拉曼实验结果 | 第77-79页 |
4.6 总结与展望 | 第79页 |
参考文献 | 第79-81页 |
第5章 层状MoS_2拉曼光谱的共振散射行为 | 第81-103页 |
5.1 引言 | 第81页 |
5.2 基本的定义和基本的性质 | 第81-86页 |
5.3 共振拉曼散射的基本表达式 | 第86-91页 |
5.4 拉曼散射截面的计算 | 第91-95页 |
5.5 理论结果的分析与讨论 | 第95-98页 |
5.6 MoS_2的共振拉曼 | 第98-100页 |
5.7 总结与展望 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-103页 |
附录列表 | 第103-127页 |
附录一 | 第103-107页 |
A-1 极化率公式的详细推导 | 第103-104页 |
A-2 r≠i,f的限制 | 第104-106页 |
A-3 iΓr的相对符号 | 第106-107页 |
附录二 | 第107-123页 |
B-1 方诺共振的经典类比 | 第107-113页 |
B-1-1 外界驱动力作用下的简谐振子共振 | 第107-109页 |
B-1-2 两耦合振子模型 | 第109-113页 |
B-2 连续态中的局域态 | 第113-118页 |
B-3 构型相互作用对强度和相移的影响 | 第118-123页 |
附录三 | 第123-127页 |
C-1 325nm激发光得到的MoS_2拉曼谱 | 第123-127页 |
致谢 | 第127-129页 |
在读期间发表的学术论文及其他研究成果 | 第129-130页 |