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非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的钝化材料与器件结构研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-24页
    1.1 太阳电池与光伏发电应用第10-14页
        1.1.1 太阳电池与光伏发电第10-11页
        1.1.2 太阳电池及光伏发电国内外发展现状第11-14页
    1.2 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层研究第14-20页
        1.2.1 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层制备第14-18页
            1.2.1.1 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层材料第14-15页
            1.2.1.2 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层制备方法第15-18页
        1.2.2 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层国内外研究现状第18-20页
    1.3 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池结构及发展第20-23页
        1.3.1 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池概述及主要结构第20-21页
        1.3.2 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池国内外发展现状第21-23页
    1.4 本文的研究目的和主要内容第23-24页
第2章 热过程对PECVD法制备非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层的影响第24-48页
    2.1 引言第24-25页
    2.2 实验方法第25-28页
        2.2.1 实验试样与材料第25页
        2.2.2 制备及检测设备第25-26页
        2.2.3 样品准备及实验过程第26-28页
    2.3 结果与讨论第28-47页
        2.3.1 热过程对钝化层氢化非晶硅(α-Si:H)钝化性能的影响第28-34页
            2.3.1.1 n-Cz-Si双面室温沉积α-Si:H膜第28-30页
            2.3.1.2 热处理温度对α-Si:H膜钝化性能影响第30-34页
        2.3.2 热过程对钝化层氢化非晶氧化硅(α-SiO_x:H)钝化性能的影响第34-47页
            2.3.2.1 沉积衬底温度对α-SiO_x:H膜钝化性能影响第34-39页
            2.3.2.2 热处理温度对α-SiO_x:H膜钝化性能影响第39-47页
    2.4 本章小结第47-48页
第3章 HWCVD法制备非晶硅/晶体硅异质结太阳电池钝化层工艺优化第48-72页
    3.1 引言第48页
    3.2 实验方法第48-51页
        3.2.1 实验试样与材料第48-50页
        3.2.2 制备及检测设备第50-51页
        3.2.3 样品准备及实验过程第51页
    3.3 结果与讨论第51-70页
        3.3.1 HWCVD法沉积钝化层氢化非晶硅(α-Si:H)的工艺优化第51-62页
            3.3.1.1 沉积气压对α-Si:H膜钝化性能的影响第51-56页
            3.3.1.2 沉积电流对α-Si:H膜钝化性能的影响第56-60页
            3.3.1.3 SiH_4流量对α-Si:H膜钝化性能的影响第60-62页
        3.3.2 HWCVD法沉积钝化层氢化非晶氧化硅的工艺优化第62-70页
            3.3.2.1 CO_2流量对α-SiO_x:H膜钝化性能的影响第62-64页
            3.3.2.2 H_2流量对α-SiO_x:H膜钝化性能的影响第64-66页
            3.3.2.3 SiH_4流量对α-SiO_x:H膜钝化性能的影响第66-67页
            3.3.2.4 电流对α-SiO_x:H膜钝化性能的影响第67-70页
    3.4 本章小节第70-72页
第4章 非晶硅/晶体硅异质结太阳电池结构设计与制备第72-90页
    4.1 引言第72-73页
    4.2 实验方法第73-75页
        4.2.1 实验试样与材料第73页
        4.2.2 制备及检测设备第73页
        4.2.3 样品准备及实验过程第73-75页
    4.3 结果与讨论第75-88页
        4.3.1 非晶体/晶体硅异质结太阳电池其他主要工艺优化第75-80页
            4.3.1.1 透明导电氧化物ITO膜工艺优化第75-76页
            4.3.1.2 n型掺杂非晶硅薄膜工艺优化第76-79页
            4.3.1.3 p型掺杂非晶硅薄膜工艺优化第79-80页
        4.3.2 非晶体/晶体硅异质结太阳电池结构研究第80-88页
            4.3.2.1 非晶体/晶体硅异质结太阳电池结构理论模拟第80-81页
            4.3.2.2 双层发射极及背电场非晶体/晶体硅异质结太阳电池实验研究第81-82页
            4.3.2.3 双层发射极非晶体/晶体硅异质结太阳电池研究第82-84页
            4.3.2.4 扩散c-Si背场异质结太阳电池研究第84-88页
    4.4 本章小节第88-90页
第5章 总结与展望第90-92页
    5.1 研究结论第90-91页
    5.2 本文创新点第91页
    5.3 下一步工作展望第91-92页
致谢第92-93页
参考文献第93-106页
攻读学位期间的研究成果第106页

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