中文摘要 | 第1-7页 |
英文摘要 | 第7-12页 |
1 绪论 | 第12-33页 |
·引言 | 第12页 |
·磺胺类药物 | 第12-18页 |
·磺胺类药物的发展及常见药物的介绍 | 第12-14页 |
·磺胺类药物的作用机理 | 第14-15页 |
·磺胺类药物的临床及常规应用 | 第15-16页 |
·磺胺类药物的危害 | 第16-17页 |
·磺胺类药物残留的情况 | 第17-18页 |
·磺胺类药物的检测方法 | 第18页 |
·流动注射化学发光介绍 | 第18-26页 |
·流动注射 | 第18-20页 |
·化学发光的发展 | 第20-21页 |
·化学发光的原理 | 第21-22页 |
·常见发光体系及应用 | 第22-25页 |
·化学发光的应用 | 第25-26页 |
·分子印迹 | 第26-33页 |
·分子印迹技术的来源及其研究的进展 | 第26-27页 |
·分子印迹的原理 | 第27-28页 |
·分子印迹的制备方法 | 第28-31页 |
·分子印迹的应用 | 第31-33页 |
2 抑制高锰酸钾化学发光法体系测定丙烯酰胺 | 第33-38页 |
·引言 | 第33页 |
·实验部分 | 第33-34页 |
·主要仪器与试剂 | 第33-34页 |
·实验方法 | 第34页 |
·结果与讨论 | 第34-38页 |
·化学发光动力学性质 | 第34-35页 |
·实验条件的选择 | 第35-36页 |
·工作曲线、精密度与检出限 | 第36页 |
·干扰实验 | 第36页 |
·样品测定及回收率实验 | 第36-37页 |
·化学发光机理的探讨及结论 | 第37-38页 |
3 高锰酸钾化学发光体系测定磺胺甲基嘧啶 | 第38-44页 |
·引言 | 第38-39页 |
·实验部分 | 第39页 |
·主要仪器与试剂 | 第39页 |
·实验方法 | 第39页 |
·结果与讨论 | 第39-44页 |
·实验条件的选择 | 第39-41页 |
·工作曲线、精密度与检出限 | 第41-42页 |
·干扰实验 | 第42页 |
·合成样品的测定及回收率实验 | 第42-43页 |
·结论 | 第43-44页 |
4 分子印迹与高锰酸钾化学发光体系联用测定磺胺甲恶唑 | 第44-54页 |
·引言 | 第44页 |
·实验部分 | 第44-46页 |
·主要仪器与试剂 | 第44-45页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹聚合物(MIP)的制备 | 第45页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹整体柱的准备 | 第45页 |
·分析步骤 | 第45-46页 |
·结果与讨论 | 第46-54页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹整体柱的稳定性 | 第46页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹聚合物的表征 | 第46-47页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹聚合物的吸附性能研究 | 第47-48页 |
·分析条件的优化 | 第48-49页 |
·化学发光反应条件的优化 | 第49-51页 |
·校准曲线、精密度和检出限 | 第51-52页 |
·干扰实验 | 第52页 |
·样品分析 | 第52-53页 |
·结论 | 第53-54页 |
5 分子印迹与高锰酸钾化学发光体系联用测定磺胺二甲嘧啶钠 | 第54-62页 |
·引言 | 第54-55页 |
·实验部分 | 第55-57页 |
·主要仪器与试剂 | 第55页 |
·磺胺二甲嘧啶钠分子印迹聚合物(MIP)的制备 | 第55-56页 |
·磺胺二甲嘧啶钠分子印迹整体柱的准备 | 第56页 |
·分析步骤 | 第56-57页 |
·结果与讨论 | 第57-62页 |
·磺胺二甲嘧啶钠分子印迹整体柱的稳定性 | 第57页 |
·磺胺甲恶唑分子印迹聚合物的表征 | 第57-58页 |
·分析条件的优化 | 第58-59页 |
·化学发光反应条件的优化 | 第59-60页 |
·校准曲线、精密度和检出限 | 第60页 |
·干扰实验 | 第60页 |
·样品分析 | 第60-61页 |
·结论 | 第61-62页 |
6 总结与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
附录A | 第70-71页 |
致谢 | 第71页 |