低温永磁波荡器永磁体磁特性与样机磁场研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-38页 |
| ·同步辐射光源 | 第9-12页 |
| ·同步辐射光源 | 第9-10页 |
| ·上海光源简介 | 第10-12页 |
| ·同步辐射插入件 | 第12-28页 |
| ·同步辐射光特点 | 第12-14页 |
| ·波荡器发展过程 | 第14-15页 |
| ·永磁型波荡器 | 第15-27页 |
| ·磁结构及辐射理论基础 | 第15-19页 |
| ·磁铁设计与磁场的性能 | 第19-24页 |
| ·永磁体及软铁 | 第24-27页 |
| ·上海光源插入件 | 第27-28页 |
| ·低温永波荡器 | 第28-32页 |
| ·发展背景及意义 | 第28-31页 |
| ·国内外发展状况 | 第31-32页 |
| ·本论文研究 | 第32-35页 |
| ·论文社会意义 | 第32-33页 |
| ·论文内容与目标 | 第33-34页 |
| ·论文技术路线 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 第二章 永磁体应用磁学基本原理 | 第38-64页 |
| ·应用磁学物理基础 | 第38-48页 |
| ·磁自发磁化及交换作用 | 第39-41页 |
| ·磁各向异性及磁致伸缩 | 第41-42页 |
| ·永磁体退磁场影响因素 | 第42-48页 |
| ·永磁体技术性能 | 第48-53页 |
| ·永磁体的发展概况 | 第48-49页 |
| ·永磁体的技术参数 | 第49-53页 |
| ·超强钕(镨)铁硼永磁体 | 第53-58页 |
| ·物质相、成分、内禀磁性能 | 第53-56页 |
| ·物质相的组成 | 第54-55页 |
| ·成分设计原理 | 第55-56页 |
| ·内禀磁学性能 | 第56页 |
| ·微观结构与磁参数 | 第56-57页 |
| ·制备工艺技术原理 | 第57-58页 |
| ·单晶体稀土永磁体低温磁特性 | 第58-62页 |
| ·磁极化强度 | 第58-60页 |
| ·磁各向异性 | 第60-61页 |
| ·自旋再取向 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第三章 钕(镨)铁硼永磁体的设计与制备 | 第64-89页 |
| ·镨铁硼永磁体制备 | 第64-80页 |
| ·发展技术的背景 | 第64-67页 |
| ·实验室制备方法 | 第67-80页 |
| ·成分设计 | 第68-69页 |
| ·制备过程 | 第69-72页 |
| ·分析测试 | 第72-79页 |
| ·实验结果 | 第79-80页 |
| ·钕铁硼中试制备 | 第80-87页 |
| ·N48H成分与磁性能 | 第80-82页 |
| ·N48H镀层的出气率 | 第82-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-89页 |
| 第四章 钕(镨)铁硼永磁体的低温磁特性 | 第89-107页 |
| ·基本磁性能参数测试 | 第89-102页 |
| ·磁性能测试 | 第90-92页 |
| ·低温磁特性 | 第92-102页 |
| ·大块永磁体低温磁矩 | 第102-106页 |
| ·低温磁矩测量系统 | 第103-104页 |
| ·低温磁矩测量结果 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106页 |
| 参考文献 | 第106-107页 |
| 第五章 永磁组件退磁场及CPMU20磁场 | 第107-130页 |
| ·永磁组件退磁场与磁场 | 第107-120页 |
| ·退磁场的计算及分析 | 第108-115页 |
| ·不可逆退磁验证方法 | 第115-117页 |
| ·退磁与低温磁场变化 | 第117-120页 |
| ·钕铁硼80周期CPMU20实验样机 | 第120-128页 |
| ·永磁体技术选型 | 第120页 |
| ·永磁体磁场设计 | 第120-125页 |
| ·低温下磁场变化 | 第125-128页 |
| ·本章小结 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-130页 |
| 第六章 研究总结及展望 | 第130-132页 |
| ·研究总结 | 第130-131页 |
| ·未来展望 | 第131-132页 |
| 知识产权 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133页 |
