| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 图像分割在半导体技术中的应用与意义 | 第10-13页 |
| 1.2 图像分割及其应用 | 第13-17页 |
| 1.3 当前图像分割技术国内外的研究现状 | 第17-21页 |
| 1.4 课题的主要工作内容及安排 | 第21-23页 |
| 1.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 第2章 复杂性测度与半导体器件外观特性 | 第24-32页 |
| 2.1 复杂性测度基本概念 | 第24-30页 |
| 2.1.1 非线性科学与复杂性 | 第24-25页 |
| 2.1.2 复杂性测度描述 | 第25-27页 |
| 2.1.3 相空间重构 | 第27-28页 |
| 2.1.4 状态空间的分割与复杂性测度 | 第28-30页 |
| 2.2 几种复杂性测度的分析比较与半导体器件图像的外观特性 | 第30-31页 |
| 2.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 基于LZ复杂度的半导体器件特征提取 | 第32-42页 |
| 3.1 图像的LZ复杂性测度 | 第33-34页 |
| 3.2 图像预处理 | 第34-36页 |
| 3.3 Hilbert曲线图像扫描 | 第36-38页 |
| 3.4 特征提取步骤 | 第38-39页 |
| 3.5 LZ特征提取实验结果及分析 | 第39-41页 |
| 3.6 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 基于涨落复杂度的半导体器件特征提取 | 第42-47页 |
| 4.1 涨落复杂性测度 | 第42-43页 |
| 4.2 预处理及Hilbert曲线图像扫描 | 第43页 |
| 4.3 特征提取步骤 | 第43-44页 |
| 4.4 涨落复杂度特征提取实验结果及分析 | 第44-46页 |
| 4.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 基于复杂度的半导体器件图像分割实验及结果分析 | 第47-57页 |
| 5.1 基于改进的模糊C均值聚类的图像分割 | 第47-51页 |
| 5.1.1 改进的模糊C均值聚类 | 第47-49页 |
| 5.1.2 实验结果 | 第49-51页 |
| 5.2 基于支持向量机的图像分割 | 第51-56页 |
| 5.2.1 支持向量机 | 第51-54页 |
| 5.2.2 实验结果比较分析 | 第54-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 基于复杂性测度的半导体器件定位 | 第57-62页 |
| 6.1 预处理 | 第57-58页 |
| 6.2 粗定位 | 第58-59页 |
| 6.3 细定位 | 第59-60页 |
| 6.4 实验结果与结论 | 第60-61页 |
| 6.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 总结与展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 作者在读期间发表的学术论文 | 第68-69页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第69页 |