| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 0 引言 | 第14-15页 |
| 1 绪论 | 第15-44页 |
| ·气体分离膜的应用 | 第15-18页 |
| ·H_2的分离提纯 | 第15页 |
| ·空气分离 | 第15-16页 |
| ·CO2分离 | 第16-17页 |
| ·天然气（空气）脱湿 | 第17-18页 |
| ·H_2/CH_4分离的意义及研究现状 | 第18-31页 |
| ·H_2/CH_4分离的意义 | 第18-21页 |
| ·H_2/CH_4分离技术现状 | 第21-31页 |
| ·MOF 膜研究现状 | 第31-41页 |
| ·MOF 的定义及研究进展 | 第31-35页 |
| ·MOF 膜的制备及 H_2/CH_4分离 | 第35-41页 |
| ·本文的研究意义、目的及思路 | 第41-44页 |
| 2 新型 MOF 的合成与表征 | 第44-96页 |
| 引言 | 第44-46页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第46-47页 |
| ·配体的合成 | 第47-51页 |
| ·配体 L~1的合成 | 第47-48页 |
| ·配体 L~2的合成 | 第48-49页 |
| ·配体 L~3的合成 | 第49页 |
| ·配体 L~4的合成 | 第49-50页 |
| ·配体 L~5的合成 | 第50-51页 |
| ·晶体合成与结构表征 | 第51-75页 |
| ·配合物 1 的合成与表征 | 第51-54页 |
| ·配合物 2 的合成与表征 | 第54-57页 |
| ·配合物 3 的合成与表征 | 第57-60页 |
| ·配合物 4 的合成与表征 | 第60-63页 |
| ·配合物 5 的合成与表征 | 第63-66页 |
| ·配合物 6 的合成与表征 | 第66-68页 |
| ·配合物 7 的合成与表征 | 第68-71页 |
| ·配合物 8 的合成与表征 | 第71-75页 |
| ·实验条件对配合物 8 结构的影响 | 第75-80页 |
| ·温度对配合物 8 结构的影响 | 第75-77页 |
| ·浓度与反应物比例对配合物 8 结构的影响 | 第77-80页 |
| ·气体吸附实验 | 第80-94页 |
| ·气体等温吸附测试 | 第80-82页 |
| ·配合物比表面积测定 | 第82-84页 |
| ·配合物吸附焓测定 | 第84-86页 |
| ·气体扩散动力学模型 | 第86-94页 |
| ·小结 | 第94-96页 |
| 3 无机基底材料的筛选、制备及 H_2/CH_4气透性能 | 第96-132页 |
| ·无机基底材料的筛选 | 第97-102页 |
| ·基底的表征 | 第97-98页 |
| ·基底的筛选 | 第98-102页 |
| ·多孔氧化铝膜的制备 | 第102-117页 |
| ·实验材料 | 第104-105页 |
| ·制备方法 | 第105-108页 |
| ·制备结果与讨论 | 第108-117页 |
| ·H_2/CH_4渗透分离实验 | 第117-130页 |
| ·实验设备 | 第118-119页 |
| ·单组份气体渗透分离实验 | 第119-122页 |
| ·混合气体渗透分离实验 | 第122-123页 |
| ·实验结果与讨论 | 第123-130页 |
| ·小结 | 第130-132页 |
| 4 新型 MOF/多孔氧化铝复合膜的制备与 H_2/CH_4气透性能 | 第132-159页 |
| ·实验条件与制备方法 | 第133-149页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第133-134页 |
| ·原位法制备新型 MOF/多孔氧化铝复合膜 | 第134-135页 |
| ·二次生长法制备新型 MOF/多孔氧化铝复合膜 | 第135-138页 |
| ·新型 MOF/多孔氧化铝复合膜的表征 | 第138-149页 |
| ·新型 MOF/多孔氧化铝复合膜 H_2/CH_4气透实验 | 第149-157页 |
| ·单组份气体渗透分离实验 | 第149-153页 |
| ·混合气体渗透分离实验 | 第153-157页 |
| ·小结 | 第157-159页 |
| 5 结论 | 第159-162页 |
| 6 创新点 | 第162-163页 |
| 参考文献 | 第163-174页 |
| 附录Ⅰ | 第174-180页 |
| 附录Ⅱ | 第180-184页 |
| 致谢 | 第184-185页 |
| 发表的学术论文 | 第185-186页 |
