摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
1 引言 | 第10-12页 |
·σ-hole 和π-hole 概述 | 第10-11页 |
·叶立德体系 | 第11页 |
·协同作用 | 第11-12页 |
2 理论基础 | 第12-16页 |
·Rayleigh-Schr dinger 微扰理论 | 第12-13页 |
·密度泛函理论(Density Functional Theory) | 第13页 |
·B3LYP 近似 | 第13页 |
·QTAIM 理论 | 第13-16页 |
·关键点 | 第14页 |
·多电子体系的电子密度分布函数 | 第14-15页 |
·拉普拉斯量 | 第15-16页 |
3 叶立德体系中σ-hole 作用的发现与探究 | 第16-32页 |
·计算方法 | 第17页 |
·结果与讨论 | 第17-31页 |
·叶立德中的σ-hole | 第17-21页 |
·磷叶立德与 HM (M = BeH, ZnH, MgH, Li, Na)之间的σ-hole 作用 | 第21-23页 |
·几何构型和相互作用能 | 第23-27页 |
·QTAIM 分析 | 第27-31页 |
·结论 | 第31-32页 |
4 叶立德体系中σ-hole 作用与氢/卤键间协同作用的研究 | 第32-48页 |
·计算方法 | 第32-33页 |
·结果与分析 | 第33-40页 |
·CH_2PH_3、XH···CH_2PH_3和 XCl···CH_2PH_3(X=F, N_3, CN, CCCN, CCF)分子的静电势分析 | 第33-35页 |
·二体和三体的构型与能量分析 | 第35-40页 |
·QTAIM 分析 | 第40-47页 |
·分子图 | 第40页 |
·氢键、卤键和 P···N 相互作用键鞍点处的电子密度 | 第40-42页 |
·氢键、卤键和 P···N 相互作用键鞍点处的拉普拉斯量和能量密度值 | 第42-45页 |
·双分子复合物和三分子复合物内的电荷转移 | 第45-47页 |
·结论 | 第47-48页 |
5 XH_3YH_2(X=C, Si, Y= N, P, As, Sb)和 XH_3ZH(X=C, Si, Z= O, S ,Se, Te,)中取代基 YH_2 和 ZH 对 X 原子外σ-hole 的影响 | 第48-57页 |
·计算方法 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-53页 |
·XH_3YH_2(X=C, Si, Y= N, P, As, Sb)和 XH_3ZH(X=C, Si, Z= O, S, Se, Te)中的 σ-hole | 第49-51页 |
·NBO 分析 | 第51-53页 |
·QTAIM 分析 | 第53-56页 |
·分子图 | 第53-54页 |
·σXY/Z键键鞍点处的电子密度拓扑性质分析 | 第54-56页 |
·结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-65页 |
攻读学位期间科研成果 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |