真空阴极弧制备TiAlN薄膜的工艺及性能研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-7页
第一章 绪论	第7-12页
·薄膜材料的特点及其分类	第7页
·物理气相沉积(PVD)	第7-9页
·等离子体及其在薄膜沉积中的作用	第9页
·离子轰击在离子镀过程中的作用	第9-11页
·本论文主要目的和内容	第11-12页
第二章 真空阴极弧镀膜工作原理	第12-18页
·真空阴极弧等离子体沉积技术	第12-14页
·真空阴极弧离子镀特点	第14页
·真空阴极弧制备薄膜的应用	第14-15页
·真空阴极弧发展和优点	第15-16页
·Ti-Al-N薄膜的特点及国内外研究现状	第16-18页
第三章 实验设备及方法	第18-23页
·实验设备简介	第18-19页
·实验用材料及预处理	第19页
·实验步骤	第19-20页
·薄膜组织结构的分析	第20-21页
·薄膜的性能测试	第21-23页
第四章 氮气分压对TiAlN薄膜结构和性能的影响	第23-30页
·N_2分压对TiAlN薄膜的结构及性能影响	第23页
·实验方法及步骤	第23-24页
·工艺参数	第24页
·实验结果及分析	第24-30页
第五章 偏压模式对TiAlN薄膜的影响	第30-39页
·脉冲偏压大小对薄膜性能的影响	第30-36页
·脉冲偏压占空比对TiAlN薄膜性能的影响	第36-39页
结论	第39-41页
致谢	第41-42页
参考文献	第42-43页