| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·配位化学和配位聚合物 | 第10页 |
| ·多吡啶类配体 | 第10-11页 |
| ·2,2':6',2"-三联吡啶配体 | 第11-24页 |
| ·母体三联吡啶的配位特征 | 第11-12页 |
| ·母体三联吡啶及其配合物的研究进展 | 第12页 |
| ·母体三联吡啶的应用研究 | 第12-17页 |
| ·母体三联吡啶的合成方法 | 第17-24页 |
| ·成环法 | 第17-22页 |
| ·耦合法 | 第22-24页 |
| ·4'-取代三联吡啶衍生物极其配合物 | 第24-27页 |
| ·4'-取代三联吡啶的分类 | 第24-25页 |
| ·4'-取代三联吡啶衍生物的研究进展 | 第25-27页 |
| ·论文研究思路 | 第27-30页 |
| 第二章 三联吡啶配体和配合物的合成与表征 | 第30-55页 |
| ·三联吡啶配体的合成设计 | 第30-31页 |
| ·实验条件 | 第31-32页 |
| ·实验试剂 | 第31-32页 |
| ·实验仪器 | 第32页 |
| ·配体的合成 | 第32-51页 |
| ·L1的制备 | 第32-35页 |
| ·3,4-二羟乙氧基苯甲醛的制备(两种方法) | 第32-33页 |
| ·3,4-二羟乙氧基苯基三联吡啶(L1)的制备 | 第33-35页 |
| ·L2的制备 | 第35-38页 |
| ·2,4-二羟乙氧基苯甲醛的制备 | 第35-36页 |
| ·2,4-二羟乙氧基苯基三联吡啶(L2)的制备 | 第36-38页 |
| ·L3的制备 | 第38-41页 |
| ·对(N,N-二羟乙基)氨基苯甲醛的制备 | 第38-39页 |
| ·对(N,N-二羟乙基)氨基苯基三联吡啶(L3)的制备 | 第39-41页 |
| ·L4的制备 | 第41-45页 |
| ·以吡啶甲酸乙酯与丙酮为原料合成L4 | 第41-42页 |
| ·以2-乙酰吡啶与碳酸二甲酯为原料合成L4 | 第42-45页 |
| ·L5的制备 | 第45页 |
| ·L7的制备 | 第45-48页 |
| ·4-氯-吡啶-2-甲酸乙酯的合成 | 第45-46页 |
| ·4,4"-二氯-4'-羟基-2,2'：6',2"-三联吡啶(L7)的合成 | 第46-48页 |
| ·实验方法小结 | 第48页 |
| ·4,4"-二乙氧基-4'羟基-2,2':6',2"-三联吡啶(L8)的制备 | 第48-49页 |
| ·4,4"-二(N,N-二甲基)-4'-羟基-2,2':6',2"-三联吡啶(L9)的制备 | 第49页 |
| ·4,4"-二辛氧基-4',-羟基-2,2':6',2"-三联吡啶(L10)的制备 | 第49-50页 |
| ·实验讨论 | 第50-51页 |
| ·三联吡啶配合物的合成与表征 | 第51-54页 |
| ·实验设计 | 第51页 |
| ·配合物的制备 | 第51-52页 |
| ·CuCl的制备 | 第51页 |
| ·L-CuCl类配合物的制备 | 第51-52页 |
| ·配合物的表征 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第三章 甲醇氧化羰基化催化性能研究 | 第55-68页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·催化性能测试方法 | 第55-62页 |
| ·高压反应测试条件 | 第55-56页 |
| ·气相色谱测试条件 | 第56页 |
| ·定量分析 | 第56-57页 |
| ·相对校正因子的测定 | 第57-61页 |
| ·标准溶液的配置 | 第57页 |
| ·标准溶液图谱 | 第57-59页 |
| ·DMC的相对校正因子的测定 | 第59-60页 |
| ·MA的相对校正因子的测定 | 第60-61页 |
| ·待测样品的测试 | 第61-62页 |
| ·待测样品的配制 | 第61页 |
| ·待测样品中DMC和MA的质量计算 | 第61-62页 |
| ·催化性能数据与讨论 | 第62-66页 |
| ·催化性能参数的计算 | 第62页 |
| ·甲醇转化率 | 第62页 |
| ·时空转化率 | 第62页 |
| ·DMC选择性 | 第62页 |
| ·腐蚀速率 | 第62页 |
| ·催化性能讨论 | 第62-66页 |
| ·不同配体的影响 | 第62-63页 |
| ·腐蚀速率比较 | 第63-64页 |
| ·催化剂的稳定性分析 | 第64-66页 |
| ·小结 | 第66-68页 |
| 总结 | 第68-69页 |
| 工作展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 附录 攻读学位期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
