中文摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-31页 |
·纳米材料导论 | 第10-12页 |
·纳米材料的概念 | 第10页 |
·纳米材料的特性 | 第10-12页 |
·金属氧化物及其复合氧化物纳米材料 | 第12-19页 |
·金属氧化物 | 第12页 |
·金属复合氧化物 | 第12页 |
·金属氧化物纳米材料的合成方法 | 第12-19页 |
·固相反应法 | 第13-14页 |
·溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
·化学气相沉积法 | 第15页 |
·水热法 | 第15-17页 |
·热分解法 | 第17-18页 |
·微乳液法 | 第18页 |
·其他方法 | 第18-19页 |
·金属氧化物纳米材料的表面功能化 | 第19-23页 |
·表面包覆 | 第19-21页 |
·表面修饰 | 第21-23页 |
·金属氧化物纳米材料应用研究 | 第23-25页 |
·化学传感 | 第23页 |
·污水处理 | 第23-24页 |
·化学电池 | 第24页 |
·能源存储 | 第24-25页 |
·本文研究内容及特色 | 第25-26页 |
·参考文献 | 第26-31页 |
第二章 氧化铜纳米片的制备及其催化降解亚甲基蓝 | 第31-54页 |
·前言 | 第31-32页 |
·实验部分 | 第32-34页 |
·试剂及仪器 | 第32-33页 |
·实验方法 | 第33-34页 |
·氧化铜纳米片的合成 | 第33-34页 |
·催化实验 | 第34页 |
·结果与讨论 | 第34-51页 |
·CuO纳米片的表征 | 第34-37页 |
·电镜表征 | 第34-35页 |
·XRD与EDS表征 | 第35-36页 |
·紫外漫反射表征 | 第36-37页 |
·产物形貌影响因素探究 | 第37-44页 |
·前驱体浓度的影响 | 第37-38页 |
·沉淀剂浓度的影响 | 第38-40页 |
·表面活性剂CTAB浓度的影响 | 第40-41页 |
·表面活性剂种类的影响 | 第41-42页 |
·温度的影响 | 第42页 |
·反应时间的影响 | 第42-44页 |
·纳米片CuO/H_2O_2体系催化降解亚甲基蓝(MB) | 第44-51页 |
·降解MB干扰因素的排除 | 第44-45页 |
·MB脱色率随时间的变化 | 第45-46页 |
·温度的影响 | 第46-47页 |
·催化剂量的影响 | 第47-48页 |
·过氧化氢用量的影响 | 第48页 |
·pH值的影响 | 第48-49页 |
·CuO纳米片催化剂重复使用次数 | 第49-51页 |
·不同催化剂比较 | 第51页 |
·结论 | 第51-52页 |
·参考文献 | 第52-54页 |
第三章 CuO/Fe_3O_4@C的制备及其催化氧化降解有机染料 | 第54-75页 |
·前言 | 第54-55页 |
·实验部分 | 第55-57页 |
·试剂及仪器 | 第55页 |
·实验方法 | 第55-57页 |
·Fe_3O_4的制备 | 第56页 |
·Fe_3O_4@C(MFC)的制备 | 第56页 |
·CuO/MFC的制备 | 第56页 |
·催化实验 | 第56-57页 |
·结果与讨论 | 第57-71页 |
·CuO/MFC的表征 | 第57-62页 |
·电镜表征 | 第57-58页 |
·XRD、EDS与高分辨电镜元素Mapping分析 | 第58-59页 |
·XPS表征 | 第59-60页 |
·IR表征 | 第60-61页 |
·磁性能表征 | 第61-62页 |
·CuO/MFC形成影响因素探究 | 第62-66页 |
·沉淀剂种类影响 | 第62-63页 |
·沉淀剂用量影响 | 第63页 |
·表面活性剂用量影响 | 第63-64页 |
·表面活性剂种类影响 | 第64-65页 |
·反应时间影响 | 第65-66页 |
·CuO/MFC制备原理探究 | 第66页 |
·催化剂CuO/MFC氧化降解甲基橙(MO) | 第66-71页 |
·降解MO干扰因素的排除 | 第66-67页 |
·pH值的影响 | 第67-68页 |
·过氧化氢用量的影响 | 第68-69页 |
·催化剂用量的影响 | 第69页 |
·MO脱色率随时间的变化 | 第69-70页 |
·温度的影响 | 第70-71页 |
·催化剂循环使用寿命 | 第71页 |
·催化剂CuO/MFC中CuO负载量及其溶解量测定 | 第71页 |
·结论 | 第71-73页 |
·参考文献 | 第73-75页 |
第四章 纳米铁酸铜的制备及其在超级电容器方面的应用 | 第75-104页 |
·前言 | 第75-76页 |
·实验部分 | 第76-78页 |
·试剂及仪器 | 第76页 |
·铁酸铜的制备 | 第76-77页 |
·电极材料表征 | 第77页 |
·电极的制备 | 第77页 |
·电极循环伏安(CV)测试 | 第77-78页 |
·电极充放电(Charge-Discharge)测试 | 第78页 |
·电极阻抗测试 | 第78页 |
·结果与讨论 | 第78-99页 |
·铁酸铜纳米微球的表征 | 第78-83页 |
·电镜表征 | 第78-79页 |
·XRD与EDS表征 | 第79-80页 |
·FT-IR表征 | 第80-81页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)表征 | 第81-82页 |
·磁性能表征 | 第82-83页 |
·形成机理初步探究 | 第83-93页 |
·沉淀剂NaAc浓度影响 | 第83-85页 |
·保护剂浓度的影响 | 第85-87页 |
·保护剂种类的影响 | 第87-88页 |
·反应温度的影响 | 第88-90页 |
·反应时间的影响 | 第90-92页 |
·铁酸铜形成机理探讨 | 第92-93页 |
·电化学测试 | 第93-99页 |
·循环伏安(CV)测试 | 第93-95页 |
·铁酸铜的恒电流充放电测试 | 第95-96页 |
·铁酸铜的循环寿命测试 | 第96-97页 |
·不同配比电极材料的恒电流充放电测试及循环寿命测试 | 第97-98页 |
·不同反应时间产物的恒电流充放电测试及循环寿命测试 | 第98-99页 |
·CuFe_2O_4的交流阻抗测试 | 第99页 |
·结论 | 第99-101页 |
·参考文献 | 第101-104页 |
第五章 结论 | 第104-106页 |
攻读硕士期间发表及待发表的文章 | 第106-107页 |
致谢 | 第107-108页 |