SiC高温热解制备石墨烯及其拉曼表征
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·石墨烯的基本结构与能带结构 | 第8-11页 |
| ·石墨烯电学性质及应用前景 | 第11-12页 |
| ·石墨烯电学性质[16] | 第11-12页 |
| ·石墨烯的应用前景 | 第12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·本文内容 | 第13-15页 |
| 第二章 RAMAN散射光谱表征石墨烯 | 第15-25页 |
| ·拉曼散射光谱的基本原理 | 第15-16页 |
| ·单层石墨烯拉曼光谱分析 | 第16-20页 |
| ·石墨烯拉曼谱与衬底的关系 | 第20-23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 石墨烯制备原理及预处理工艺 | 第25-37页 |
| ·石墨烯制备方法的概述 | 第25-28页 |
| ·微机械剥离法 | 第25-26页 |
| ·CVD 法制备石墨烯 | 第26-27页 |
| ·热解 SiC 外延石墨烯 | 第27-28页 |
| ·外延法制备生石墨烯的原理 | 第28-32页 |
| ·碳化硅结构 | 第28-29页 |
| ·SiC 热解法制备石墨烯机理 | 第29-32页 |
| ·生长前衬底的处理工艺 | 第32-35页 |
| ·SiC 衬底的清洗 | 第32页 |
| ·氢刻蚀工艺及其探究 | 第32-34页 |
| ·去除氧化物工艺 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第四章 SIC热解制备石墨烯工艺探究及拉曼表征 | 第37-53页 |
| ·不同气压下对石墨烯外延的影响 | 第37-43页 |
| ·超高真空下石墨烯外延生长 | 第37-39页 |
| ·低真空环境下石墨烯外延生长 | 第39-41页 |
| ·高压氩气下石墨烯的外延生长 | 第41-43页 |
| ·石墨烯外延工艺的探索 | 第43-52页 |
| ·正轴 SiC 衬底石墨烯工艺的探究 | 第44-45页 |
| ·典型样品实验结果分析 | 第45-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
