| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·MgO 薄膜的材料特性与其应用 | 第11-14页 |
| ·MgO 薄膜的材料特性 | 第11-12页 |
| ·MgO 薄膜的应用 | 第12-14页 |
| ·MgO 薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·电子束蒸发（Electron-beam evaporation） | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法（Magnetron sputtering） | 第15-16页 |
| ·溶胶-凝胶法（Sol-gel） | 第16-17页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第17页 |
| ·金属有机物化学气相外延（MOCVD） | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第18页 |
| ·ZnO 薄膜概述 | 第18-20页 |
| ·本论文的研究目的和主要工作 | 第20-21页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征方法 | 第21-27页 |
| ·实验原理及设备简介 | 第21-22页 |
| ·反应磁控溅射的工作原理 | 第21页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第22-23页 |
| ·薄膜的测试表征方法 | 第23-27页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第24页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第24页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第24-25页 |
| ·X 射线能量色散谱仪（EDS） | 第25页 |
| ·台阶仪（SP） | 第25-26页 |
| ·铁电测试仪 | 第26-27页 |
| 第三章 ZnO 薄膜的制备及其对 MgO 薄膜生长的影响研究 | 第27-35页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·Si 衬底和 ZnO/Si 衬底上生长 MgO 薄膜 | 第28-30页 |
| ·ZnO 薄膜对 MgO 薄膜的影响 | 第30-33页 |
| ·不同厚度的 ZnO 薄膜对 MgO 薄膜结构和形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·ZnO 退火对 MgO 薄膜的结构和形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第四章 MgO/ZnO 薄膜的制备工艺研究 | 第35-54页 |
| ·衬底温度对 MgO/ZnO 薄膜结构与形貌的影响 | 第35-38页 |
| ·溅射功率对 MgO/ZnO 薄膜结构与形貌的影响 | 第38-42页 |
| ·溅射气压对 MgO/ZnO 薄膜结构与形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·氩氧比对 MgO/ZnO 薄膜的结构与形貌的影响 | 第45-48页 |
| ·退火方式对 MgO/ZnO 薄膜的结构与形貌的影响 | 第48-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 第五章 以 MgO/ZnO 薄膜作为缓冲层制备 PZT 薄膜 | 第54-59页 |
| ·PZT 薄膜的制备及电性能分析 | 第54-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第66-67页 |
