| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·铁电材料及薄膜概述 | 第12-14页 |
| ·钙钛矿型铁电材料的结构 | 第12-13页 |
| ·铁电材料的性能 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜材料的应用 | 第14页 |
| ·铋系钙钛矿型薄膜材料的研究状况 | 第14-17页 |
| ·Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3材料的发展与研究现状 | 第15-16页 |
| ·BiAlO_3材料的发展与研究现状 | 第16-17页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 铁电薄膜材料的制备与测试技术 | 第22-30页 |
| ·铁电薄膜材料的制备方法 | 第22-24页 |
| ·化学溶液法 | 第22-23页 |
| ·原子层沉积技术 | 第23-24页 |
| ·铁电薄膜材料的测试技术 | 第24-28页 |
| ·表征测试 | 第25-26页 |
| ·电性能测试 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-30页 |
| 第三章 Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的制备及其性能研究 | 第30-46页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·溶胶—凝胶法制备Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜 | 第30-32页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·不同退火温度对Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜结构的影响 | 第32-35页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第32-33页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第33-35页 |
| ·氮气氛围后处理的Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的低温介电性能研究 | 第35-42页 |
| ·NBT薄膜的后处理 | 第35-36页 |
| ·结构表征研究 | 第36-37页 |
| ·室温介电性能研究 | 第37-38页 |
| ·NBT-N_2的低温介电性能研究 | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 第四章 化学溶液法制备BiAlO_3薄膜及其研究 | 第46-54页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·化学溶液沉积法制备BiAlO_3薄膜 | 第46-47页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第46-47页 |
| ·薄膜的制备 | 第47页 |
| ·不同退火温度对薄膜微结构的影响 | 第47-49页 |
| ·薄膜的XRD表征 | 第47-49页 |
| ·薄膜的AFM表征 | 第49页 |
| ·后退火工艺对薄膜结构的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第五章 原子层沉积法制备Bi-Al-O薄膜及其研究 | 第54-64页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·原子层沉积法制备Bi-Al-O薄膜 | 第55-57页 |
| ·前驱体与衬底 | 第55页 |
| ·薄膜的生长 | 第55-57页 |
| ·Bi-Al-O薄膜的微结构表征研究 | 第57-61页 |
| ·不同衬底对薄膜结构的影响 | 第57页 |
| ·不同温度后退火对薄膜结构的影响 | 第57-59页 |
| ·后退火前后薄膜的形貌研究 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
